Seagate Research,1251 Waterfront Place, Pittsburgh, PA 15222;
E-beam lithography; proximity effect; data storage; thin film heads; nanofabrication;
机译:通过MNDO确定的农业相互作用参数和邻近度特征预测直接的锂化反应-酚醛化合物的外围锂化反应[综述]
机译:通过电子束光刻技术对50 nm的波带片进行纳米加工,并对X射线成像进行局部邻近效应校正
机译:通过电子束光刻中的图案辅助邻近效应校正来控制区域形状,以提高X射线光学器件的效率
机译:REAP(光栅电子束先进过程)使用50kv光栅电子束系统,用于子100nm节点掩模技术
机译:使用线性编程技术实施电子束邻近效应校正,以制造非对称领结天线。
机译:适用于大面积光子纳米结构的高速电子束写入-参数选择
机译:利用线性规划技术实现不对称弓形天线的电子束接近效应校正