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Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies
Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies
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1.
Nikon EPL tool development summary
机译:
尼康EPL工具开发摘要
作者:
Takaharu Miura
;
Tatsuo Sato
;
Masaya Miyazaki
;
Kazunari Hada
;
Yu Sato
;
Masateru Tokimaga
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron beam lithography;
electron beam projection lithography (EPL);
EB stepper;
vacuum system;
vacuum stage;
vacuum body;
2.
High Power Laser-Plasma X-Ray Source for Lithography
机译:
用于光刻的高功率激光 - 等离子X射线源
作者:
C. J. Gaeta
;
H. Rieger
;
I.C.E. Turcu
;
R.A. Forber
;
K.L. Cassidy
;
S.M. Campeau
;
M.J. Powers
;
J.R. Maldonado
;
J. H. Morris
;
R. M. Foster
;
H.I. Smith
;
M.H. Lim
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
X-ray source;
X-ray lithography;
laser-produced-plasma;
diode-pumped-solid-state-laser;
GaAs semiconductor devices;
3.
Three Dimensional Metrology in MEMS Applications
机译:
MEMS应用中的三维计量
作者:
Alexander Friz
;
Keith Best
;
Satinderpall Pannu
;
Jocelyn Nee
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
MEMS;
three dimensional metrology;
thick films;
4.
Predicting overlay performance for electron projection lithography masks
机译:
预测电子投影光刻面罩的覆盖性能
作者:
Phillip L. Reu
;
Cheng-fu Chen
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Michael J. Lercel
;
Obert R. Wood II
;
R. Scott Mackay
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron projection lithography;
EPL masks;
pattern transfer distortions;
finite element analysis;
5.
EXTATIC, ASML's α-tool development for EUVL
机译:
EUVL的ASMLα-Tool开发
作者:
Hans Meiling
;
Jos Benschop
;
Rob Hartman
;
Peter Kuerz
;
Peter Hoghoj Roland Geyl
;
Noreen Harned
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
6.
Direct photopatterning of metal oxide materials using photosensitive organometallic precursor films
机译:
使用光敏器官金属前体薄膜直接照射金属氧化物材料
作者:
Sean J. Barstow
;
Augustin Jeyakumar
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
organometallic;
photosensitive;
solution deposition;
spin-on;
oxide;
BST;
7.
Lossless Compression Techniques for Maskless Lithography Data
机译:
无掩模光刻数据的无损压缩技术
作者:
Vito Dai
;
Avideh Zakhor
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
maskless;
lithography;
compression;
8.
At-wavelength inspection of defect smoothing in EUVL masks
机译:
EUVL面罩中缺陷平滑的波长检查
作者:
Moonsuk Yi
;
Mincheol Park
;
Paul Mirkarimi
;
Cindy Larson
;
Jeffrey Bokor
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
at-wavelength;
actinic;
defect smoothing;
EUVL;
mask;
phase defect;
inspection;
9.
Numerical investigation of EUV mask contact layer defect printability at the 30 nm technology node
机译:
30nm技术节点的EUV掩模接触层缺陷可印刷数值研究
作者:
Amr Y. Abdo
;
Pei-yang Yan
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUVL mask;
numerical simulation;
contact layer;
mask defect printability;
10.
Defect printability analysis on electron projection lithography with diamond stencil reticle
机译:
用金刚石模板掩模版缺陷对电子投影光刻的可印刷性分析
作者:
Yoichi Tomo
;
Yoshinori Kojima
;
Sumito Shimizu
;
Manabu Watanabe
;
Hiroshi Takenaka
;
Hiroshi Yamashita
;
Teruo Iwasaki
;
Kimitoshi Takahashi
;
Masaki Yamabe
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron projection lithography;
diamond;
stencil reticle;
defect;
printability;
inspection;
repair;
defect specification;
11.
Semiconductor Foundry, Lithography, and Partners
机译:
半导体铸造,光刻和合作伙伴
作者:
B.J. Lin
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
12.
Preparation of high aspect ratio 70 nm patterns by supercritical drying technique in proximity x-ray lithography
机译:
通过超临界干燥技术在近距离X射线光刻中的高纵横比70nm图案的制备
作者:
Yukiko Kikuchi
;
Takuya Fukuda
;
Seiichi Shishiguchi
;
Kaoru Masuda
;
Nobuyuki Kawakami
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
lithography;
x-ray lithography;
development;
resist;
resist pattern collapse;
supercritical;
supercritical drying;
13.
Status of the liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography
机译:
EUV光刻液 - 氙喷射激光等离子体源的状态
作者:
Bjorn A. M. Hansson
;
Lars Rymell
;
Magnus Berglund
;
Oscar Hemberg
;
Emmanuelle Janin
;
Jalmar Thoresen
;
Sofia Mosesson
;
Johan Wallin
;
Hans M. Hertz
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
laser-produced plasma;
liquid jet;
xenon;
14.
V-grooves on LiNbO_3 for Passive Fiber Alignment
机译:
用于无源光纤对齐的LINBO_3上的V-GROVES
作者:
Qihong LOU
;
Zhenhuan YE
;
Tiejun LI
;
Jingxing DONG
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
excimer laser ablation;
V-groove;
LiNbO_3 crystal;
passive fiber alignment;
15.
High Resolution Templates for Step and Flash Imprint Lithography
机译:
高分辨率模板,用于步进和闪存印记光刻
作者:
D. J. Resnick
;
W. J. Dauksher
;
D. Mancini
;
K. J. Nordquist
;
E. Ainley
;
K. Gehoski
;
J. H. Baker
;
T. C. Bailey
;
B. J. Choi
;
S. Johnson
;
S. V. Sreenivasan
;
J. G. Ekerdt
;
C. G. Willson
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
imprint;
lithography;
template;
step;
flash;
16.
New PTB reflectometer for the characterization of large optics for the extreme ultraviolet spectral region
机译:
用于极端紫外光谱区域的大型光学器件表征的新型PTB反射计
作者:
Johannes Tuemmler
;
Frank Scholze
;
Guido Brandt
;
Bernd Meyer
;
Frank Scholz
;
Katrin Vogel
;
Gerhard Ulm
;
Michael Poier
;
Udo Klein
;
Wolfgang Diete
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet;
metrology;
lithography;
at-wavelength characterization, reflectome-try;
synchrotron radiation;
17.
Ion beam sputter deposition of low defect EUV mask blanks on 6 inch LTEM substrates in a real production environment
机译:
在实际生产环境中6英寸LTEM基板上的低缺损EUV掩模坯料的离子束溅射沉积
作者:
H. Becker
;
L. Aschke
;
B. Schubert
;
J. Krieger
;
F. Lenzen
;
S. Yulin
;
T. Feigl
;
T. Kuhlmann
;
N. Kaiser
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
Mo/Si;
multilayer mirrors;
mask blanks;
IBS;
EUVL;
LTEM;
18.
Shaped E-Beam lithography integration work for advanced ASIC manufacturing Progress report
机译:
用于先进ASIC制造进度报告的形状的电子束光刻集成工作
作者:
L. Pain
;
M. Charpin
;
Y. Laplanche
;
D. Henry
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
E-beam;
lithography;
photoresist;
19.
NGL process and the role of International SEMATECH
机译:
NGL进程和国际SEMATECH的作用
作者:
Giang Dao
;
R. Scott Mackay
;
Phil Seidel
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
EUV masks;
electron projection lithography;
20.
Mechanical modeling of the reticle and chuck for EUV lithography
机译:
EUV光刻掩模版和卡盘的机械建模
作者:
Carl J. Martin
;
Andrew R. Mikkelson
;
Richard O. Tejeda
;
Roxann L. Engelstad Edward G. Lovell
;
Kenneth L. Blaedel
;
Andre A. Claudet
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUV reticles;
exposure;
electrostatic chuck;
finite elements;
thermomechanical response;
particle contamination;
21.
Simulation Studies of Roughness-Smoothing Effect of Molybdenum/Silicon Multilayer Coating Based on Resputtering Model
机译:
基于反复化模型的钼/硅多层涂层粗糙度平滑效果的仿真研究
作者:
Taro Ogawa
;
Masaaki Ito
;
Hiromasa Yamanashi
;
Hiromasa Hoko
;
Eiichi Hoshino
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography (EUVL);
EUVL mask;
molybdenum/silicon (Mo/Si);
multilayer;
smoothing;
phase defect;
resputtering;
simulation;
22.
Performance of 4' Wafer-Scale hermoset Working Stamps in Hot Embossing Lithography
机译:
在热压印光刻中的4“晶圆级赫索科特工作邮票的性能
作者:
Nils Roos
;
Hubert Schulz
;
Marion Fink
;
Karl Pfeiffer
;
Frank Osenberg
;
Hella-Christin scheer
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
hot embossing lithography;
nanoimprint;
thermoset;
wafer scale;
anti-sticking;
working stamps;
23.
Optimization of a Dense Plasma Focus Device as a Light Source for EUV Lithography
机译:
优化致密等离子体聚焦装置作为EUV光刻的光源
作者:
Igor V. Fomenkov
;
William N. Partlo
;
Richard M. Ness
;
I. Roger Oliver
;
Stephan T. Melnychuk
;
Oleh V. Khodykin
;
Norbert R. Boewering
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUV light source;
dense plasma focus;
Xe emission;
24.
New Supercritical Resist Dryer
机译:
新超临界抗蚀剂干燥器
作者:
Hideo Namatsu
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
supercritical dryer;
supercritical drying;
supercritical CO_2;
pattern collapse;
resist;
micromachining;
25.
EUV photoresist performance results from the VNL and the EUV LLC
机译:
EUV光刻级致力于VNL和EUV LLC的性能
作者:
Jonathan Cobb
;
Paul Dentinger
;
Luke Hunter
;
Donna OConnell
;
Gregg Gallatin
;
Bill Hinsberg
;
Frances Houle
;
Martha Sanchez
;
Wolf-Dieter Domke
;
Stefan Wurm
;
Uzodinma Okoroyanwu
;
Sang Hun Lee
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
photoresist;
resolution;
line-edge roughness;
photospeed;
EUVL;
26.
Worldwide technologies and the ITRS in the current economic climate
机译:
全球技术和目前经济气候的ITRS
作者:
Paolo Gargini
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
lilthography;
27.
Manufacturing Sub-50 nm Gratings using E-beam Lithography and Electroplating
机译:
使用电子束光刻和电镀制造Sub-50 NM光栅
作者:
M. Kroon
;
F.C.M.J.M. van Delft
;
W.S.M.M. Ketelaars
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme-UV;
EUV gratings;
e-beam lithography;
negative tone resist;
HSQ;
plating base;
electroplating;
28.
100-picometer interferometry for EUVL
机译:
100-picometer干涉测量euvl
作者:
Gary E. Sommargren
;
Donald W. Phillion
;
Michael A. Johnson
;
Nhan Q. Nguyen
;
Anton Barty
;
Franklyn J. Snell
;
Daren R. Dillon
;
Lloyd S. Bradsher
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
aspheric mirrors;
interferometry;
29.
Extended Front-To-Back Alignment Capability for MEMS/MOEMS Applications
机译:
用于MEMS / MOEMS应用程序的延长前后对齐能力
作者:
Cheng Qun Gui
;
Willy van Bueel
;
Frans Bijnen
;
Joeri Lof
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
optical microlithography;
front-to-back alignment;
micro systems technologies;
micro electro mechanical systems;
micro electro opto mechanical systems;
30.
Collinearity and stitching performance on an ASML stepper
机译:
ASML步进器上的共同性和拼接性能
作者:
Michel van de Moosdijk
;
Enno van den Brink
;
Klaus Simon
;
Alexander Friz
;
Geoffrey Phillipps
;
Rich Travers
;
Erik Raaymakers
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
thin film heads;
row bar;
collinearity;
stitching;
distortion and metrology;
31.
Xenon Target Performance Characteristics for Laser-Produced Plasma EUV Sources
机译:
氙气靶力特征的激光产生的等离子体EUV源
作者:
Harry Shields
;
Steven W. Fornaca
;
Michael B. Petach
;
Mark Michaelian
;
R. D. McGregor
;
Richard H. Moye
;
Randall St. Pierre
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
32.
Novel Design of Att-PSM Structure for Extreme Ultra Violet Lithography and Enhancement of Image Contrast during Inspection
机译:
极端超紫光光刻att-PSM结构的新颖设计,并在检查期间提高图像对比度
作者:
Sang-In Han
;
James R. Wasson
;
Pawitter. J. S. Mangat
;
Jonathan L. Cobb
;
Kevin Lucas
;
Scott D. Hector
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
masks;
phase shift masks;
attenuated phase shift masks;
contact holes;
33.
PREVAIL - Latest Electron Optics Results
机译:
普及 - 最新电子光学结果
作者:
Hans C. Pfeiffer
;
Steven D. Golladay
;
Michael S. Gordon
;
Rodney A. Kendall
;
Jon E. Lieberman
;
James D. Rockrohr
;
Werner Stickel
;
T. Yamaguchi
;
Kazuya Okamoto
;
Takaaki Umemoto
;
Hiroyasu Shimizu
;
Shinichi Kojima
;
Muneki Hamashima
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron projection optics;
electron projection lithography;
EPL;
PREVAIL;
curvilinear variable axis;
CVAL;
large area reduction projection optics;
next generation lithography;
NGL;
34.
Fine pattern replication on 10-mm X 10-mm exposure area using ETS-1 laboratory tool in HIT
机译:
使用ETS-1实验室工具在击中10 mm x 10 mm曝光区域上的精细图案复制
作者:
K. Hamamoto
;
T. Watanabe
;
H. Hada
;
H. Komano
;
S. Kishimura
;
S. Okazaki
;
H. Kinoshita
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
large field exposure;
chemically amplified resist;
35.
Roll-to-roll manufacturing of thin film electronics
机译:
薄膜电子产品的卷制造
作者:
James R. Sheats
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
36.
Damage-free Mask Repair Using Electron Beam Induced Chemical Reactions
机译:
使用电子束诱导化学反应的无损坏掩模修复
作者:
Ted Liang
;
Alan Stivers
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUVL mask;
mask repair;
electron beam induced etch and deposition;
37.
Radiation induced carbon contamination of optics
机译:
辐射诱导光学污染
作者:
Ralph Kurt
;
Michiel van Beek
;
Co Crombeen
;
Peer Zalm
;
Yde Tamminga
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
contamination;
carbon growth;
electron irradiation;
38.
The Impact of EUVL Mask Buffer and Absorber Material Properties on Mask Quality and Performance
机译:
EUVL掩模缓冲器和吸收剂材料性能对掩模质量和性能的影响
作者:
Pei-yang Yan
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUVL mask;
EUVL mask absorber;
EUVL mask buffer;
EUVL lithography;
39.
Manufacture of Fly-eye mirror in extreme ultraviolet lithography illumination system by means of ultraprecision diamond cutting
机译:
通过超自眼钻石切割制造极端紫外线光刻照明系统的蝇镜
作者:
Yoshinori Hashimoto
;
Yoshimi Takeuchi
;
Tomohiko Kawai
;
Kiyoshi Sawada
;
Hideo Takino
;
Norio Shibata
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
ultra precision machining;
5-axis control;
diamond tool;
fly-eye mirror;
40.
High-accuracy detector calibration for EUV metrology at PTB
机译:
PTB在EUV计量中的高精度探测器校准
作者:
Frank Scholze
;
Guido Brandt
;
Peter Mueller
;
Bernd Meyer
;
Frank Scholz
;
Johannes Tuemmler
;
Katrin Vogel
;
Gerhard Ulm
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme UV;
high-accuracy detector calibration;
irradiation stability;
radiometry;
41.
Dynamic Image Placement Accuracy of a Stencil Mask
机译:
模板蒙版的动态图像放置精度
作者:
H. Takenaka
;
H. Yamashita
;
K. Takahashi
;
Y. Tomo
;
M. Watanabe
;
T. Iwasaki
;
J. Yamamoto
;
M. Yamabe
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EB lithography;
EPL;
stencil mask;
vibration;
image placement;
overlay;
IP;
OL;
EB stepper;
42.
Honing the accuracy of extreme ultraviolet optical system testing: at-wavelength and visible-light measurements of the ETS Set-2 projection optic
机译:
珩磨极限紫外光系统测试的准确性:ETS-2投影光学器件的波长和可见光测量
作者:
Kenneth A. Goldberg
;
Patrick Naulleau
;
Jeffrey Bokor
;
Henry N. Chapman
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
interferometry;
extreme ultraviolet lithography;
EUV;
at-wavelength testing;
EUV visible-light comparison;
43.
IMPACT OF EUV LIGHT SCATTER ON CD CONTROL AS A RESULT OF MASK DENSITY CHANGES
机译:
由于掩模密度变化,EUV光散射对CD控制的影响
作者:
Christof Krautschik
;
Masaaki Ito
;
Iwao Nishiyama
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
light scatter;
flare;
CD control;
mask density change;
power spectral density (PSD);
mirror surface roughness;
44.
EUVL mask blank repair
机译:
EUVL面具空白修复
作者:
Anton Barty
;
Paul B. Mirkarimi
;
Daniel G. Stearns
;
Don Sweeney
;
Henry N. Chapman
;
Miles Clift
;
Scott Hector
;
Moonsuk Yi
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
mask;
reticle;
defect;
multilayer;
printability;
cost of ownership;
45.
Ultra-High Accuracy Measurement of the Coefficient of Thermal Expansion for Ultra-Low Expansion Materials
机译:
超高精度测量超低膨胀材料的热膨胀系数
作者:
Vivek G. Badami
;
Michael Linder
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
coefficient of thermal expansion;
dilatometry;
dilatometer;
laser interferometry;
ultra-high accuracy;
uncertainty estimate;
ULE;
periodic nonlinearity;
46.
Analysis of critical parameters for EPL mask fabrication
机译:
EPL掩码制造的关键参数分析
作者:
Michael Lercel
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron beam projection lithography;
next generation lithography;
mask;
stencil;
mask cost;
47.
Thermal Expansion Behavior of Proposed EUVL Substrate Materials
机译:
所提出的EUVL衬底材料的热膨胀行为
作者:
Ina Mitra
;
Mark J. Davis
;
Jochen Alkemper
;
Rolf Mueller
;
Heiko Kohlmann
;
Lutz Aschke
;
Ewald Moersen
;
Simone Ritter
;
Hrabanus Hack
;
Wolfgang Pannhorst
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
thermal expansion;
CTE homogeneity;
EUVL;
zerodur;
48.
Aspherical Mirror Measurement using a Point Diffraction Interferometer
机译:
使用点衍射干涉仪的非球面镜测量
作者:
Kazuya Ota
;
Takahiro Yamamoto
;
Yusuke Fukuda
;
Katsura Otaki
;
Iwao Nishiyama
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
49.
ASET Development of At-wavelength Phase-shifting Point Diffraction Interferometer
机译:
ASET开发在波长相移点衍射干涉仪
作者:
Katsumi Sugisaki
;
Yucong Zhu
;
Yoshio Gomel
;
Masahito Niibe
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
optical testing;
interferometry;
phase-shifting point diffraction interferometer;
foucault test;
wavefront error;
flare;
alignment;
EUV lithography;
50.
Controlling Contamination in Mo/Si Multilayer Mirrors by Si Surface-capping Modifications
机译:
通过Si表面封盖修改控制MO / SI多层镜中的污染
作者:
M. Malinowski
;
C. Steinhaus
;
M. Clift
;
L. E. Klebanoff
;
S. Mrowka
;
R. Soufli
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
multilayer mirror;
extreme ultraviolet;
carbon deposition;
photoelectrons;
ETS;
51.
Environmental Data From the Engineering Test Stand
机译:
工程试验台的环境数据
作者:
L. E. Klebanoff
;
P.A. Grunow
;
S. Graham
;
W.M. Clift
;
A.H. Leung
;
S.J. Haney
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
optics;
contamination;
EUV;
lithography;
cleaning;
ETS;
52.
Simulation Model of In-Plane Distortion in EUVL Mask during Chucking
机译:
夹持过程中EUVL面罩在平面畸变的模拟模型
作者:
Akira Chiba
;
Kazuya Ota
;
Eiichi Hoshino
;
Minoru Sugawara
;
Taro Ogawa
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
simulation;
in-plane distortion;
EUVL mask;
chucking;
stess;
multilayer;
absorber;
53.
Effect of argon and non-argon ion impingement on stress reduction of multilayers for extreme ultraviolet lithography
机译:
氩气和非氩离子冲击对极端紫外光刻的多层压力降低的影响
作者:
Masayuki Shiraishi
;
Wakana Ishiyama
;
Noriaki Kandaka
;
Tetsuya Oshino
;
Katsuhiko Murakami
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
stress reduction;
Mo/Si multilayer;
ion-beam sputtering;
ion-beam polishing;
in situ stress measurement;
low-stress multilayer;
molybdenum oside layer;
extreme ultraviolet lithography;
54.
Verification studies of thermophoretic protection for EUV masks
机译:
EUV面具致热保护验证研究
作者:
Daniel J. Rader
;
Daniel E. Dedrick
;
Eric W. Beyer
;
Alvin H. Leung
;
Leonard E. Klebanoff
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
particle contamination control;
thermophoretic pellicle;
thermophoresis;
55.
Pattern Distortion of a Stencil Reticle Caused by Stress of Silicon Membrane and Resist on the Reticle
机译:
由硅膜应力引起的模板掩模版的图案变形,抗蚀掩模罩
作者:
Shin-ichi Takahashi
;
Masashi Okada
;
Norihiro Katakura
;
Takeshi Irita
;
Shintaro Kawata
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron beam projection lithography (EPL);
EB stepper;
scattering stencil reticle;
EB reticle;
image placement error;
critical dimension error;
silicon-on-insulator (SOI) wafer;
wafer process;
membrane process;
stress-controlled membrane;
56.
REAP (Raster E-Beam Advanced Process) Using 50kV Raster E-beam System for Sub-100nm Node Mask Technology
机译:
REAP(光栅电子束先进过程)使用50kv光栅电子束系统,用于子100nm节点掩模技术
作者:
Ki-Ho Baik
;
Robert Dean
;
Mark Mueller
;
Maiying Lu
;
Homer Lem
;
Stephen Osborne
;
Frank Abboud
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
57.
Fabrication of a fly-eye mirror for an extreme ultraviolet lithography illumination system by arranging silicon mirror elements
机译:
通过布置硅镜元件来制造极端紫外线光刻照明系统的射击镜
作者:
Hideo Takino
;
Teruki Kobayashi
;
Kazushi Nomura
;
Masaaki Kuki
;
Akinori Itoh
;
Junji Nakamura
;
Hideki Komatsuda
;
Norio Shibata
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUVL;
illumination;
fly-eye;
integrator;
fabrication;
optics;
silicon;
magnet;
arrangement;
58.
Design and fabrication of broadband EUV multilayer mirrors
机译:
宽带EUV多层镜的设计与制作
作者:
Thomas Kuhlmann
;
Sergiy Yulin
;
Torsten Feigl
;
Norbert Kaiser
;
Helmut Bernitzki
;
Hans Lauth
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV;
multilayers;
Mo/Si;
broadband mirrors;
coating designs;
metrology;
plasma sources;
59.
EUVL Masks: Requirements and Potential Solutions
机译:
EUVL Masks:要求和潜在的解决方案
作者:
Scott D. Hector
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
masks;
mask blanks;
multilayer coatings;
cost of ownership;
standards;
60.
Fabrication of Mo/Si Multilayer for EUVL Reticle Blank by Ion Beam Sputtering
机译:
通过离子束溅射为EUVL光栅空白的Mo / Si多层的制造
作者:
Hiromasa Yamanashi
;
Taro Ogawa
;
Hiromasa Hoko
;
Byoung-Taek Lee
;
Eiichi Hoshino
;
Masashi Takahashi
;
Takashi Yoneda
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
reticle;
mask;
multilayer;
molybdenum/silicon (Mo/Si);
reflectivity;
defect;
ion beam sputtering (IBS);
61.
Advances in low-defect multilayers for EUVL mask blanks
机译:
用于EUVL掩模空白的低缺陷多层多层的进展
作者:
James A. Folta
;
J.Courtney Davidson
;
Cindy C. Larson
;
Christopher C. Walton
;
Patrick A. Kearney
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
next generation lithography;
NGL;
mask;
multilayer;
defect;
defect detection;
defect mitigation;
62.
STUDIES OF EUV CONTAMINATION MITIGATION
机译:
EUV污染缓解研究
作者:
S. Graham
;
M.E. Malinowski
;
C. E. Steinhaus
;
P. A. Grunow
;
L. E. Klebanoff
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
RF discharge cleaning;
atomic hydrogen;
optics;
contamination;
63.
CAPELLA: a kHz and low debris capillary discharge EUV source
机译:
Capella:KHz和低碎片毛细管排放EUV源
作者:
E. Robert
;
T. Gonthiez
;
O. Sarroukh
;
A.L. Thomann
;
R. Viladrosa
;
C. Fleurier
;
J.M. Pouvesle
;
C. Cachoncinlle
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUV source;
plasma discharge source;
capillary discharge source;
EUV lamp;
EUV spectroscopy;
EUV imaging;
64.
Simulation of Exposure and Alignment for Nano-imprint Lithography
机译:
纳米印记光刻的曝光与对准模拟
作者:
Yunfei Deng
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
nano imprint;
exposure;
alignment;
inspection;
electromagnetic scattering;
65.
First Results from the Updated NIST/DARPA EUV Reflectometry Facility
机译:
最新的NIST / DARPA EUV反射设施的首先结果
作者:
S. Grantham
;
C. Tarrio
;
M. B. Squires
;
T. B. Lucatorto
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
66.
New developments in ALFT soft X-ray point sources
机译:
ALFT软X射线点源的新发展
作者:
Dario F. Cintron
;
Xiaoming Guo
;
Meisheng Xu
;
Rubin Ye
;
Yuriy Antoshko
;
Steve Drew
;
Albert Philippe
;
Ernilio Panarell
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
soft X-ray source;
point source;
lithography;
vacuum spark discharge;
67.
Lithographic Evaluation of the EUV Engineering Test Stand
机译:
EUV工程试验台的光刻评估
作者:
Sang H. Lee
;
Daniel A. Tichenor
;
William P. Ballard
;
Luis J. Bernardez II
;
John E. M. Goldsmith
;
Steven J. Haney
;
Karen L. Jefferson
;
Terry A. Johnson
;
Alvin H. Leung
;
Donna J. OConnell
;
William C. Replogle
;
John B. Wronosky
;
Kenneth Blaedel
;
Patrick Nau
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet;
lithography;
laser-produced plasma;
flare;
aerial image contrast;
resist resolution;
68.
Static Microfield Printing at the Advanced Light Source with the ETS Set-2 Optic
机译:
具有ETS SET-2光学的高级光源处的静态微框印刷
作者:
Patrick P. Naulleau
;
Kenneth A. Goldberg
;
Erik H. Anderson
;
David Attwood
;
Phillip Batson
;
Jeffrey Bokor
;
Paul Denham
;
Eric Gullikson
;
Bruce Harteneck
;
Brian Hoef
;
Keith Jackson
;
Deirdre Olynick
;
Seno Rekawa
;
Farhad Salmassi
;
Ken Blaedel
;
Henry Chapman
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
synchrotron radiation;
microfield printing;
decoherentizing illuminator;
69.
Fabrication Challenges for Next Generation Devices: MEMS for RF Wireless Communications
机译:
下一代设备的制造挑战:RF无线通信的MEMS
作者:
David Seeger
;
Jennifer Lund
;
Christopher Jahnes
;
Lili Deligianni
;
Paivikki Buchwalter
;
Panayotis Andricacos
;
Raul Acosta
;
Inna Babich
;
Arpan Mahorowala
;
Joanna Rosner
;
John Cotte
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
communications;
wireless;
passives;
MEMS;
70.
Pattern Printability for Off-axis Incident Light in EUV Lithography
机译:
EUV光刻中轴外入射光的图案可印刷性
作者:
Minoru Sugawara
;
Masaaki Ito
;
Taro Ogawa
;
Eiichi Hoshino
;
Akira Chiba
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
off-axis incident light;
MEF;
aberration;
OPE;
OPC;
71.
PREVAIL-Latest Electron Optics Results
机译:
普遍的最新电子光学结果
作者:
Hans C. Pfeiffer
;
Steven D. Golladay
;
Michael S. Gordon
;
Rodney A. Kendall
;
Jon E. Lieberman
;
James D. Rockrohr
;
Werner Stickel
;
T. Yamaguchi
;
Kazuya Okamoto
;
Takaaki Umemoto
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron projection optics;
electron projection lithography;
EPL;
PREVAIL;
curvilinear variable axis;
CVAL;
large area reduction projection optics;
next generation lithography;
NGL;
72.
Cost of Ownership Analysis for Patterning Using Step and Flash Imprint Lithography
机译:
使用步骤和闪光印记光刻图案化的所有权分析成本
作者:
S.V. Sreenivasan
;
C.G. Willson
;
N.E. Schumaker
;
D.J. Resnick
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
73.
High-Power, Laser-Produced-Plasma EUV Source
机译:
高功率,激光制作 - 等离子EUV源
作者:
William P. Ballard
;
Luis J. Bernardez
;
Robert E. Lafon
;
Richard J. Anderson
;
Yon Perras
;
Alvin Leung
;
Harry Shields
;
Michael B. Petach
;
Randall J. St. Pierre
;
Robert Bristol
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUVL;
lithography;
laser-produced plasma;
laser plasma source;
74.
Fabrication of Microbowtie Structures Using Electron-Beam Lithography for a New Optical Probe
机译:
使用电子束光刻制造新型光学探头的微型织机结构
作者:
Ampere A. Tseng
;
Chii D. Chen
;
C. S. Wu
;
Rudy E. Diaz
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron-beam lithography;
micro bowtie;
micro fabrication;
Micro/nano inspection;
option probe;
75.
High power EUV sources for lithography - A comparison of laser produced plasma and gas discharge produced plasma
机译:
用于光刻的高功率EUV源 - 激光产生的等离子体和气体放电产生的等离子体的比较
作者:
Uwe Stamm
;
Imtiaz Ahmad
;
Vladimir M. Borisov
;
Frank Flohrer
;
Kai Gabel
;
Sven Goetze
;
Alexander S. Ivanov
;
Oleg B. Khristoforov
;
Diethard Kloepfel
;
Peter Koehler
;
Juergen Kleinschmidt
;
Vladimir Korobotchko
;
Jens Ringling
;
Guido Schriever
;
Alexander Y. Vino
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV sources;
laser-produced plasma;
gas-discharge produced plasma;
Z-pinch;
EUV lithography;
76.
Low-Temperature Wafer-Scale 'WARM' Embossing for Mix Match with UV-Lithography
机译:
低温晶圆级“温暖”压花与UV光刻混合匹配
作者:
Hubert Schulz
;
Matthias Wissen
;
Nils Roos
;
Hella-Christin Scheer
;
Karl Pfeiffer
;
Gabi Gruetzner
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
nanoimprint lithography;
UV lithography;
mix and match;
low temperature embossing;
wafer scale;
77.
Experimental investigation of the Coulomb effect in electron projection lithography (EPL)
机译:
电子投影光刻中库仑效应的实验研究(EPL)
作者:
Jiro Yamamoto
;
Fumio Murai
;
Akemi Moniwa
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
78.
Status of fabrication of square format masks for extreme ultraviolet lithography (EUVL) at the MCoC
机译:
MCOC在极端紫外线光刻(EUVL)的方形掩模的制造现状
作者:
Kenneth Racette
;
Carey Williams
;
Emily Fisch
;
Louis Kindt
;
Mark Lawliss
;
Robin Ackel
;
Michael Lercel
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
NGL;
EUVL;
chromium;
absorber;
buffer;
etch;
45nm;
79.
Design of an Electron Projection System with Slider Lenses and Multiple Beams
机译:
具有滑块和多个光束的电子投影系统的设计
作者:
D. Moonen
;
L.H.A. Leunissen
;
P.W.H. de Jager
;
P. Kruit
;
A J. Bleeker
;
K.D. van der Mast
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
electron projection lithography;
electron beam lithography;
electron beam projection optics;
electron lens design;
aberrations;
80.
Development of high power EUV sources for lithography
机译:
光刻高功率EUV源的开发
作者:
Vladimir M. Borisov
;
Imtiaz Ahmad
;
Sven Goetze
;
Alexander S. Ivanov
;
Oleg B. Khristoforov
;
Jurgen Kleinschmidt
;
Vladimir Korobotchko
;
Jens Ringling
;
Guido Schriever
;
Uwe Stamm
;
AlexanderY. Vinokhodov
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
81.
Laser plasma radiation sources based on a laser-irradiated gas puff target for x-ray and EUV lithography technologies
机译:
基于激光照射的X射线和EUV光刻技术的激光等离子体辐射源
作者:
Henryk Fiedorowicz
;
Andrzej Bartnik
;
Roman Jarocki
;
Jerzy Kostecki
;
Rafal Rakowski
;
Miroslaw Szczurek
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
laser plasmas;
laser plasma x-ray sources;
gas puff target;
lithography;
82.
Development of diagnostic tools for the EUV spectral range
机译:
EUV光谱范围诊断工具的开发
作者:
K. Mann
;
S. Kranzusch
;
G. Eckert
;
C. Peth
;
B. Schaefer
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV optics;
13nm radiation;
laser-induced plasma;
multilayer mirror;
spectral characteristics;
gas puff target;
hartmann-shack sensor;
83.
A complete system of nano-imprint lithography for IC production
机译:
用于IC生产的纳米印记光刻完整系统
作者:
Donald L. White
;
Obert R. Wood II
;
Cheng-fu Chen
;
Edward G. Lovell
;
Roxann L. Engelstad
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
nano-imprinting;
VLSI lithography;
overlay;
adaptive mold holder;
mold inspection;
84.
Nanotechnologies and nanolithography in Europe
机译:
欧洲的纳米技术和纳丝切术
作者:
Jean-Charles Guibert
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
85.
EUV Phase-shifting Masks and Aberration Monitors
机译:
EUV相移掩模和像差监视器
作者:
Yunfei Deng
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV;
phase-shifting;
mask patterning;
oblique incident;
ion-mixing;
phase edge;
diffraction;
aberration;
86.
Lithography: A historical perspective and shape of things to come
机译:
光刻:历史的视角和要来的东西
作者:
Syed A. Rizvi
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
microelectronics;
nanoelectronics;
moletronics;
spintronics;
bio-molecules;
self-assembly;
87.
Fully Automated Interference Lithography
机译:
全自动干扰光刻
作者:
Bruce D. MacLeod
;
Adam F. Kelsey
;
Mark A. Leclerc
;
Daniel P. Resler
;
Sergey Liberman
;
James P. Nole
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
interference lithography;
holographic;
gratings;
DFB lasers;
phase masks;
photoresist;
metrology;
motheye;
AR coating;
photonic band gap;
88.
Performance of 4' Wafer-Scale Thermoset Working Stamps in Hot Embossing Lithography
机译:
在热压花光刻中的4“晶圆级热固性工作盖章的性能
作者:
Nils Roos
;
Hubert Schulz
;
Marion Fink
;
Karl Pfeiffer
;
Frank Osenberg
;
Hella-Christin Scheer
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
hot embossing lithography;
nanoimprint;
thermoset;
wafer scale;
anti-sticking;
working stamps;
89.
Advanced Deflector Elements for High-Throughput Electron Optical Systems
机译:
高通量电子光学系统的先进偏转元件
作者:
Oliver Kienzle
;
Rainer Knippelmeyer
;
Wilfried Claus
;
Marko Matijevic
;
Lars Ehrhardt
;
Wolf D. Rau
;
Alexander Orchowski
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
high throughput electron optics;
dynamical aberration correction;
electron projection lithography;
90.
Large-Field Ion-Optics for Projection and Proximity Printing and for Mask-Less Lithography (ML2)
机译:
用于投射和接近印刷的大型离子光学和用于薄膜的光刻(ML2)
作者:
Hans Loeschner
;
Gerhard Stengl
;
Herbert Buschbeck
;
Alfred Chalupka
;
Gertraud Lammer
;
Elmar Platzgummer
;
Herbert Vonach
;
Patrick W.H. De Jager
;
Rainer Kaesmaier
;
Albrecht Ehrmann
;
Stefan Hirscher
;
Andreas Wolter
;
Andreas Dietzel
;
Ruediger Berger
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
ion projection lithography (IPL);
patterned magnetic media;
ion beam proximity printing;
lithography on non-planar substrates (curved surfaces);
mask-less lithography (ML2);
91.
Vendor capability for low thermal expansion mask substrates for EUV Lithography
机译:
用于EUV光刻的低热膨胀掩模基板的供应商能力
作者:
K L Blaedel
;
J S Taylor
;
S D Hector
;
P Y Yan
;
A Ramamoorthy
;
P D Brooker
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUVL reticles;
EUVL substrates;
EUVL masks;
92.
Thermomechanical global response of the EUVL wafer during exposure
机译:
曝光期间EUVL晶片的热机械全局响应
作者:
J. Chang
;
C. J. Martin
;
R. L. Engelstad
;
E. G. Lovell
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
wafer heating;
electrostatic chuck;
finite elements;
thermomechanical response;
93.
Power Scale-Up of the Extreme Ultraviolet Electric Capillary Discharge Source
机译:
极端紫外线电毛细管排放源的功率扩展
作者:
Neal R. Fornaciari
;
Howard Bender
;
Dean Buchenauer
;
Jason Dimkoff
;
Michael Kanouff
;
Steve Karim
;
Carmelo Romeo
;
Greg Shimkaveg
;
William T. Silfvast
;
Kenneth D. Stewart
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUVL;
EUV source;
plasma discharge source;
capillary discharge source;
94.
Physical Properties of the HCT EUV Source
机译:
HCT EUV源的物理特性
作者:
Joseph Pankert
;
Klaus Bergmann
;
Juergen Klein
;
Willi Neff
;
Oliver Rosier
;
Stefan Seiwert
;
Christopher Smith
;
Rolf Apetz
;
Jeroen Jonkers
;
Michael Loeken
;
Guenther Derra
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV source;
gas discharge plasma;
EUV lithography;
95.
Thermomechanical modeling of the pin-chucked EUV reticle during exposure
机译:
引脚夹紧EUV掩模版曝光期间的热机械建模
作者:
Alexander C. Wei
;
Carl J. Martin
;
William A. Beckman
;
John W. Mitchell
;
Roxann L. Engelstad
;
Edward G. Lovell
;
Kenneth L. Blaedel
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUV reticles;
exposure;
finite elements;
thermomechanical response;
electrostatic chuck;
pin chuck;
96.
Electron beam lithography of isolated trenches with chemically amplified positive resist
机译:
隔离沟槽的电子束光刻与化学放大抗蚀剂
作者:
Andrew Eckert
;
Rick Bojko
;
Harold Gentile
;
Robert Harris
;
Jay Jayashankar
;
Earl Johns
;
Kevin Minor
;
Keith Mountfield
;
Carl Seiler
;
XiaoMin Yang
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
E-beam;
SEM;
FIB;
PEB delay;
electron back-scattering;
plating;
97.
Characterization and Characteristics of a ULE~(~R) Glass Tailored for the EUVL Needs
机译:
为EUVL需求量身定制的ULE〜(〜r)玻璃的特征和特征
作者:
Kenneth E. Hrdina
;
Benjamin Z. Hanson
;
Philip M. Fenn
;
Robert Sabia
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
ULE;
inclusions;
optics;
photomasks;
striae;
homogeneity;
thermal expansion;
metrology;
98.
Performance upgrades in the EUV Engineering Test Stand
机译:
EUV工程测试台的性能升级
作者:
Daniel A. Tichenor
;
William C. Replogle
;
Sang H. Lee
;
William P. Ballard
;
A. H. Leung
;
Glenn D. Kubiak
;
Leonard E. Klebanoff
;
Samuel Graham
;
John E. M. Goldsmith
;
Karen L. Jefferson
;
John B. Wronosky
;
Tony G. Smith
;
Terry A. Johnson
;
Harry Shields
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
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2002年
关键词:
EUVL;
lithography;
optical fabrication;
optical design;
laser-produced plasma;
laser plasma source;
maglev;
magnetic levitation;
stages;
precision engineering;
99.
Inspection of EUV reticles
机译:
EUV晶片检查
作者:
Donald Pettibone
;
Andrei Veldman
;
Ted Liang
;
Alan R. Stivers
;
Pawitter Mangat
;
Bing Lu
;
Scott Hector
;
James Wasson
;
Kenneth Blaedel
;
Emily Fisch
;
David M. Walker
会议名称:
《Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers Conference on Emerging Lithographic Technologies》
|
2002年
关键词:
EUV;
reticle;
photomask;
inspection;
NGL;
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