Brewer Science, Inc., Rolla, MO 65401;
DUV; photolithography; bottom anti-reflective coating; BARC; via fill; gap-fill; via-first; dual damascene;
机译:超数值孔径光刻中提高分辨率的技术和双层底部减反射涂层的优化
机译:铜双镶嵌互连的电介质底部抗反射涂层
机译:NH_4Cl水溶液对ZnO:Al薄膜的织构优化工艺在薄膜太阳能电池中用作增透膜
机译:双镶嵌工艺的底部抗反射涂料的优化
机译:电迁移增强了无铅焊点中铜-锡金属间化合物的动力学,并使用分步和闪光压印光刻技术进行了铜低k双大马士革工艺。
机译:优化的薄硅柱二维阵列可在可见光谱范围内提供高效抗反射涂层
机译:双镶嵌工艺优化铜电化学电化学研究
机译:溶胶 - 凝胶法沉积高功率激光用渐变折射率增透膜