Institut für Angewandte Physik Karlsruhe Institute of Technology (KIT) D-76128 Karlsruhe Germany;
机译:基于光学螺旋吡喃部分的Sti启动激光光刻
机译:受STED启发的金三螺旋中红外超材料
机译:平流层臭氧消耗的机理:II。平流层主循环中的链长和臭氧消耗速率
机译:卓越的光刻中的耗尽机制
机译:酿酒酵母和哺乳动物细胞中肌醇生物合成的新型调控机制,以及对VPA诱导的6-磷酸葡萄糖耗竭的潜在机制的影响。
机译:受刺激具有巯基功能的排放耗尽光刻聚合物
机译:高分辨率接触光刻的对比机制:比较研究