Department of Electrical and Computer Engineering Cornell University Ithaca NY 14853;
机译:可变耦合系数的线性负锥形绝缘子上硅布拉格光栅耦合器中的蚀刻深度扰动来分析输电效率。
机译:Ultracpact硅偏振分离器 - 旋转器使用双蚀刻和锥形耦合器
机译:一种基于改进的博世工艺制造略微锥形通孔的多步蚀刻方法
机译:硅中高耦合效率蚀刻方面锥形
机译:用于单片集成光纤耦合组件的蚀刻面磷化铟基有源光子组件的开发和分析。
机译:用于垂直晶体管应用的磷掺杂硅/硅锗多层结构的生长和选择性蚀刻
机译:硅波导中的高耦合效率蚀刻刻面锥度
机译:具有干蚀刻垂直面和抛物面偏转镜的表面发射alGaas二极管激光器的高量子效率单片阵列。 (重新公布新的可用性信息)