The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd., 1590 Tabata, Samukawa, Koza, Kanagawa 253-0114, Japan;
single component; chemically amplified resist; electron beam; dehalogenation;
机译:基于聚合物脱卤的单组分化学增强抗蚀剂
机译:基于单组分非化学放大抗蚀剂系统的含硅双层抗蚀剂
机译:基于单组分非化学放大抗蚀剂系统的新型可光漂白的深紫外线抗蚀剂
机译:基于聚合物脱卤的单组分化学放大抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:基于连续鉴别-扩增策略的超高特异性临床样本中循环甲基化DNA的单拷贝敏感电化学分析
机译:基于官能多冰冰衍生物的新型单组分抗性,深紫色光刻。
机译:抗蚀剂材料设计:碱催化化学扩增。