WaferMasters, Inc., 246 East Gish Road, San Jose, CA 95112 USA;
机译:碳膜作为光吸收层的红外半导体激光退火对硅晶片中注入的硼原子的活化
机译:使用激光散斑成像(LSI)技术的退火多晶硅太阳能晶片的表面粗糙度表征
机译:具有InAs量子点的GaAs光子晶体纳米腔激光器的设计,制造和光学表征,通过晶片结合到Si衬底上
机译:激光尖峰退火后Si晶片全局和局部畸变的非常高的放大光学表征
机译:铟镓锌氧化物:毫秒激光尖峰退火过程中的相形成和结晶动力学
机译:通过生长后退火改善晶片级六方氮化硼薄膜的结构和光学性能
机译:局部加热方法通过Nd:YAG激光束,用于测量Si晶片的光学性质。
机译:用光学反射率表征离子注入Gaas和si的激光退火