Department of Applied Chemistry, Kyushu Institute of Technology 1-1 Sensui, Tobata, Kitakyushu 804-8550, Japan;
low temperature melts; reaction mechanism; tantalum; electrodeposition;
机译:熔融盐电沉积制备钽涂层的组织和腐蚀特性
机译:氟化物添加的LiCl-Kcl-CSCL-CSCL熔盐低温电沉积钛
机译:从新型低温熔盐的钽电沉积
机译:室温氯化铝1-甲基-3-乙基咪唑鎓氯化物熔融盐对金属和合金的电沉积。
机译:用熔盐电解质镁合金制备的Mg / Al金属间化合物涂层的热处理诱导的Mg / Al金属间化合物涂层
机译:熔融盐电沉积制备钽涂层的组织和腐蚀特性
机译:从熔盐中电沉积β-钽