電磁界シミュレーションを用いたスロットアンテナ励起によるマイクロ波プラズマの均一生成法の検討

摘要

半導体デバイス製造におけるレジスト除去は，微細パターン作製のためのフォトリソグラフィーにおいて，必ず用いられる重要な工程の1つである。レジスト除去には薬液処理法及び酸素プラズマアッシング処理法が主流であるが，それぞれの手法には環境負荷が大きい事や高温加熱によるダメージが生じる等の課題がある。課題を解決するため，マイクロ波励起の水プラズマアッシング法の研究開発を進めている。本手法は，基板温度が室温程度の条件において，フォトレジストOFPR5000（東京応化工業）の除去速度が1m/min以上と速く, イオン注入されたレジスト膜も高速除去できることが特長である 。マイクロ波プラズマは細長いスロットアンテナに沿って，楕円形状で生成される。楕円形のプラズマ形状は，ウェハ面内のアッシングレートの不均一性をもたらし，レジスト除去後のプラズマ照射によるダメージが懸念される。そこで，3 次元電磁界シミュレーションを用い，均一性を向上するために有効となるスロットアンテナ形状を検討したので報告する。