Department of Electrical Engineering, Faculty of Engineering, Kanagawa University, Yokohama, 221-8686, Japan;
机译:脉冲激光烧蚀Er掺杂CVD法生长的ZnS:Er {sup}(3+)薄膜的红色电致发光
机译:来自ZnS的红色电致发光:ER {sup}(3+)通过CVD种植的胶片与脉冲激光消融ER掺杂
机译:富锌Zn_3N_2靶材的脉冲激光烧蚀制备p型氮掺杂ZnO薄膜及其性能
机译:CVD ZnS膜的电致发光特性,具有脉冲激光烧蚀杂质掺杂
机译:通过脉冲激光烧蚀生长的超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)薄膜的生长机理和电传输性质。
机译:Femtosecond双脉冲激光烧蚀和共掺杂ZnS薄膜的沉积
机译:通过脉冲激光沉积生长的Al-和Ga-掺杂Mg0.05 Zn0.95O薄膜的温度依赖性自补偿
机译:非平衡脉冲激光烧蚀生长的高掺杂p-ZnTe薄膜和量子阱结构