X-FAB Sarawak Sdn. Bhd., 1 Silicon Drive, Sama Jaya Free Industrial Zone, 93350 Kuching, Sarawak, Malaysia;
X-FAB Sarawak Sdn. Bhd., 1 Silicon Drive, Sama Jaya Free Industrial Zone, 93350 Kuching, Sarawak, Malaysia;
X-FAB Sarawak Sdn. Bhd., 1 Silicon Drive, Sama Jaya Free Industrial Zone, 93350 Kuching, Sarawak, Malaysia;
Fluid flow; Radio frequency; MIM capacitors; Silicon nitride; Capacitors; Metals;
机译:LPCVD和原位HF气相沉积的氮化硅薄膜沉积及其在堆叠DRAM电容器制造中的应用
机译:通过远程等离子体增强CVD和沉积后快速热退火制备的具有氮化的Si-SiO / sub 2 /界面的超薄氮化硅/氧化物堆叠栅极电介质的PMOSFET的性能和可靠性
机译:通过热线化学气相沉积制备的微晶硅的沉积:沉积参数对材料性能和太阳能电池性能的影响
机译:氮化硅沉积参数对SINX-MIM电容器TDDB性能的影响
机译:氮化铝和氮化硅的低温热化学气相沉积和催化化学气相沉积
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:pECVD氮化硅沉积法作为mIm电容器介质对Gaas HBT工艺的影响
机译:在冷基板硅上沉积单晶硅,二氧化硅和氮化硅的研究