HGST, San Jose, CA, USA;
机译:模板辅助的1 Td / in(2)位图案介质的直接生长
机译:用于1.5 Teradot / inch〜2位图案化介质的伺服集成模板的制备,采用嵌段共聚物定向组装
机译:纳米压印光刻技术与嵌段共聚物定向自组装的集成,用于制造位图介质的20 nm以下模板
机译:比特模式介质的直接增长 - 模板效应
机译:通过AFM尖端定向纳米电化学图案化进行化学模板化。
机译:微圆图案化Si衬底上厚AlN模板的直接生长和可控制的聚结
机译:模板辅助直接增长1Td / in $ ^ 2 $位图案媒体