IHP, Im Technologiepark 25, D-15236 Frankfurt (Oder), Germany;
BiCMOS; CMOS; ESCC evaluation; Heterojunction bipolar transistors; LDMOS; SiGe; millimeter wave bipolar integrated circuits;
机译:集成到0.25μmSiGe-BICMOS技术中的耐辐射RF-LDMOS晶体管
机译:辐射耐受RF-LDMOS晶体管,集成到0.25μm的SiGe-Bicmos技术中
机译:使用修改后的共源共栅架构在0.25μmSiGe:C BiCMOS技术中对极低相位噪声Ku波段耦合VCO进行分析和设计
机译:用LDMOS模块辐射硬度评估0.25μm的SiGe Bicmos技术
机译:用于光通信变送器的SiGe BICMOS集成电路=光学通信变送器的SiGe BICMOS集成电路
机译:评估细胞硬度以及细菌孢子硬度与耐久性之间相关性的方法的开发
机译:采用0.13μmsiGe:C-BiCmOs技术集成LDmOs晶体管,用于高频应用