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【24h】

Radiation-hardened phase-locked loop fabricated in 200 nm SOI-CMOS

机译:用200 nm SOI-CMOS制成的辐射硬化锁相环

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摘要

We designed a phase-locked loop (PLL) operating at 200 MHz using 0.2 µm fully depleted silicon-on-insulator (SOI) technology. By SPICE simulation with an appropriate single-event transient (SET) model, we achieved a radiation-hardened PLL that does not cause a SET upset upon ion irradiation with a linear energy transfer (LET) of 50 MeV-cm2/mg at an areal penalty of 75%.
机译:我们使用0.2 µm的全耗尽型绝缘体上硅(SOI)技术设计了一个工作于200 MHz的锁相环(PLL)。通过使用适当的单事件瞬变(SET)模型进行SPICE仿真,我们获得了辐射硬化的PLL,该离子不会在离子辐照下以50 MeV-cm 2 <的线性能量传递(LET)引起SET失调。 / sup> / mg,面积罚款为75%。

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