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Wang Zhigang; 汪志刚; Chen Wanjun; 陈万军;
中国半导体行业协会;
异质结场效应晶体管; 器件结构; 凹形栅极; 仿真分析; 性能评价;
机译:具有等离子体增强原子层沉积的AIO_xN_y栅极绝缘体的常关型凹栅AlGaN / GaN MOS-HFET
机译:具有结型场板的高Baliga质量因数常关型P-GaN栅极AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管的仿真设计
机译:具有厚未掺杂GaN栅极层的常关型AlGaN / GaN / AlGaN双异质结FET
机译:性能改进的常关型AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管,在凹入的栅极下方具有设计的p-GaN区域
机译:研究常关模式的AlGaN / GaN MOS HEMT器件,该器件利用栅极后退和p-GaN栅极结构以及带有醛生长的高k栅极绝缘体来实现高功率应用。
机译:凹入式栅极结构对具有薄AlOxNy MIS栅极的AlGaN / GaN-on-SiC MIS-HEMT的影响
机译:栅极介电质量对在200mm Si衬底上开发无金的D型和E型凹栅AlGaN / GaN晶体管的影响
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管
机译:降低AlGaN / GaN HEMT的栅极漏电流的AlGaN / GaN HEMT方法
机译:形成栅极电极的方法,制造AlGaN / GaN-HEMT的方法以及ALGaN / GaN-HEMT的方法
机译:形成栅极应力的方法,制造AlGaN / GaN-HEMT的方法以及ALGaN / GaN-HEMT
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