硅纳米晶光学常数随温度变化特性研究

摘要

本文自行研制了一套可控变温样品室装置,对硅纳米晶薄膜进行加热实验,并基于洛伦兹色散模型,对实验获得的椭偏参数进行拟合,得到不同温度下的nc-Si和SiO2的复合层折射率随温度的变化关系。实验结果表明镶嵌在二氧化硅中的硅纳米晶在不同温度下,椭偏参数有规律的变化。发合膜层的光学折射率n随着温度的升高有线性增大趋势。这些数据在硅基微纳光子学器件的研究中有参考价值。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号