苦瓜未授粉子房离体培养研究

摘要

以不同基因型苦瓜组合作为供体,研究适合苦瓜未授粉子房离体培养产生胚状体的培养体系.结果表明,苦瓜未授粉子房切片在诱导培养基为CBM+0.04mg·L-1TDZ上,经过1～2周的暗培养,培养温度为25°C;之后25°C光照/黑暗16h/8h培养,可以诱导胚状体的发生.苦瓜未授粉子房切片在诱导培养基为CBM+0.5mg·L-1NAA上,进行35°C热激暗培养3d,之后25°C光照/黑暗16h/8h培养,子房切片出现5种表型,分别为芽、白化、黄绿松散型愈伤组织、褐化松散型和紧密型愈伤组织.