功率IC芯片真空回流焊工艺缺陷研究

摘要

分析了功率IC芯片真空回流焊装配中锡溅锡珠、芯片翻转、边缘空洞3种工艺缺陷的产生机理.研究了钢网厚度、钢网开口、回流时间、压力参数对真空回流焊工艺缺陷的影响.结果表明,功率IC芯片上的空洞随焊膏厚度增加而减小,"9宫"钢网开口更易于保持印刷厚度的一致性.采用120s预热时间、升温区预真空、变压力真空回流焊等措施,减少了锡溅锡珠,杜绝了芯片翻转,改善了芯片边缘空洞.