退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
孔泳; 陈恒武; 云晓; 郝振霞; 方肇伦;
中国化学会;
南昌大学;
光刻掩膜; AZ光胶; 聚碳酸酯; 光化学改性; 金微电极;
机译:通过无光刻胶的紫外线光刻和紫外线辅助的低温粘合在PMMA基板上制造具有一维纳米通道的流体芯片
机译:通过光定向化学镀在聚碳酸酯电泳芯片上制备用于安培检测的金微电极
机译:二维动态CA方法用于光刻胶刻蚀模拟的改进及其在SU-8光刻胶深紫外光刻模拟中的应用
机译:用于极端紫外光刻的聚碳酸酯基非化学放大光刻胶
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:硬质光刻胶作为180°C以下表面微加工工艺的牺牲层
机译:用于波纹表面上共形光刻的电子沉积光刻胶的X射线曝光
机译:极紫外掩膜毛坯,使用极紫外掩膜毛坯,光刻技术,使用光掩膜制造的方法,以及使用光电掩膜的半导体器件的制造方法
机译:极紫外掩膜毛坯,使用极紫外掩膜毛坯制造的图像,使用光掩膜的光刻设备以及使用光掩膜制造半导体装置的方法
机译:制作多层金属通过紫外光刻和电沉积的钢微结构,包括用光敏树脂的第一层覆盖基底的导电表面,并通过掩模照射第一层
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。