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掺杂纳米硅薄膜微结构的研究

摘要

本研究采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)方法成功地沉积出掺杂(主要是磷、硼)纳米硅(nc-Si:H)薄膜.利用高分辨电镜(HREM)、Raman散射、X射线衍射(XRD)、俄歇电子谱(AES)和共振核反应(RNR)等手段对掺入不同杂质(主要是磷、硼)后的纳米硅薄膜的微结构进行系统的研究.

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