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倪毅强; Ni Yiqiang; He Zhiyuan; 贺致远; Zhong Jian; 钟健; Yang Fan; 杨帆; Yao Yao; 姚尧; Shen Zhen; 沈震; Xiang Peng; 向鹏; Liu Minggang; 柳铭岗; 张佰君; Zhang Baijun; Liu Yang; 刘扬;
教育部;
国务院学位委员办公室;
异质结场效应晶体管; 硅衬底氮化镓; 低温氮化铝插入层; 外延结构; 电学特性;
机译:埋入式低温AlN应变弛豫层对(110)Si衬底上通过氨分子束外延生长的GaN薄膜的应变状态和缓冲特性的影响
机译:氢化物气相外延对沉积在AlN / Si衬底上的低温GaN缓冲层进行预处理
机译:低温氨基分子束外延生长的金属极性AlGaN / AlN / GaN和AlN / GaN异质结构中的纯AlN层
机译:使用低温GaN和AlN成核层的晶格匹配ZrB_2衬底上GaN的分子束外延
机译:金属有机气相外延法在Si衬底上异质外延生长GaAs。
机译:厚度取决于在c面GaN上沉积的原子层中AlN的界面和电学性质
机译:插入在两个AlN层之间的GaN厚度对晶格匹配的AlInN / AlN / GaN / AlN / GaN双通道异质结构的输运性能的影响
机译:si上外延alN取向变化的微观结构分析,可能的来源及对随后GaN生长的影响
机译:一种制造半导体器件的方法,该方法包括通过汽相淀积在选择性氧化的Si衬底上同时生长外延和多晶硅层的Si层
机译:GaN晶体,GaN晶体衬底,GaN晶体衬底和具有外延层的半导体器件的表面处理方法,以及GaN晶体衬底和具有外延层的半导体器件的制造方法
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