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提高MEMS侧壁陡度的一种新方法

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随着微型机电系统(MEMS)的迅速发展,对生产MEMS的微细加工设备的需求也越来越大.本文重点介绍深度光刻机中的掩模和硅片间的菲涅耳衍射对侧壁陡度的影响,以及运用一种微阵列积分镜去平滑菲涅耳衍射效应,从而提高MEMS的侧壁陡度,最后给出了实验的结果.

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来源
《第五届全国微米/纳米技术学术会议》|2001年|116-118|共3页
会议地点重庆
作者
余国彬; 姚汉民; 胡松;
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作者单位

国家自然科学基金委员会;

科技部;

解放军总装备部;

清华大学;

重庆大学;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类光刻、掩膜;
关键词
MEMS; 深度光刻机; 微阵列积分镜; 侧壁陡度; 微机械电子系统; 菲涅尔衍射;

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