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Si(001)斜切衬底片上Ge量子点的固相外延生长

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本文研究了Si(001)6°斜切衬底上Ge量子点的固相外延生长,同时对Si(001)斜切衬底片上固相外延Ge最子点的稳定性进行了研究.

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来源
《第六届全国分子束外延学术会议》|2001年|68-69|共2页
会议地点贵阳
作者
胡冬枝; 赵登涛; 蒋伟荣; 施斌; 顾骁骁; 张翔九; 蒋最敏;
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作者单位

中国电子学会;

中国有色金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.11;TN304.42;
关键词
固相外延生长; Ge量子点; Si衬底; 稳定性;

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