采用USP-CVD沉积SnO<,2>:Sb透明导电膜

摘要

以显微镜载玻片为衬底,采用超声雾化喷涂(USP)化学气相沉积(CVD)工艺制备出SnO<,2>:Sb薄膜.对衬底温度,方块电阻进行了研究.用X射线衍射方法分析了在同一温度下,不同Sb掺杂浓度的膜的结构.采用AFM分析了SnO<,2>:Sb的表面形貌.