场助热电子发射显示器介质层的研究

摘要

本文介绍了一种场助热电子发射阴极中绝缘介质层的制作工艺,对五氧化二钽、三氧化二铝、二氧化铪等介质进行了电子束蒸发镀膜实验,并对其电学性能进行了分析比较,在此基础上复合了Ta<,2>O<,5>-Al<,2>O<,3>-HfO<,2>等几种介质结构,经过对复合结构的击穿场强、介电常数等电学性能的测试后确认获得了比较满意的结果.