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洪啸吟;
中国精细化工协会;
中国电子材料行业协会;
光刻; 光刻胶; 电子化学品; 微电子技术;
机译:基于酚醛清漆的正性光刻胶作为纳米光刻光刻胶的评估
机译:东京Oka,最新的光刻胶发展趋势实现了不冻结的双重图案开发与EUV光刻兼容的光刻胶技术
机译:二维动态CA方法用于光刻胶刻蚀模拟的改进及其在SU-8光刻胶深紫外光刻模拟中的应用
机译:石英晶体微量天平研究低分子量光刻胶组分对极端紫外光刻中化学放大光刻胶溶解行为的影响
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:SU-8光刻胶的185 nm扩散光光刻技术原型制作的具有轴突分离的微流体长期梯度发生器
机译:用于ArF光刻胶的光刻胶下层抗反射涂层和间隙填充材料的研究
机译:用于波纹表面上共形光刻的电子沉积光刻胶的X射线曝光
机译:光刻胶聚合物,包括该光刻胶聚合物的光刻胶组合物以及使用该光刻胶组合物形成光刻胶图案的方法
机译:光刻胶涂布液供应装置,使用该光刻胶涂布液供应装置的光刻胶涂布液和光刻胶涂布装置
机译:光刻胶交联单体,交联剂光刻胶,光刻胶组合物,光刻胶图案形成方法和半导体器件
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