Eu3+掺杂纳米多孔二氧化硅薄膜的制备及其发光性研究

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• 来源
  《2008国际粉体技术与应用论坛暨全国粉体产品与设备应用技术交流大会》|2008年|318-322|共5页
• 会议地点 北京
• 作者

  林金辉; 魏双凤; 王美平;

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• 作者单位

  中国建筑材料联合会;

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• 会议组织
• 正文语种
• 原文格式 PDF
• 中图分类 微电子学、集成电路（IC）;计算技术、计算机技术;
• 关键词

  掺杂浓度; 纳米多孔二氧化硅; 膜的制备; 发光强度; 增大; 光的强度; 发射峰; 温度升高; 退火温度; 特征; 发射光谱; 荧光性能; 薄膜表面; 无定形态; 多孔网络结构; 分布均匀; 表征结果; 发光薄膜; 凝胶技术; 溶胶;