ALD氧化铝单层膜1064nm激光损伤特性研究

摘要

在大型激光系统中，薄膜损伤阈值的高低直接制约了激光器向更高功率方向发展。研制高抗激光损伤阈值薄膜成为薄膜界重点关注的问题之一。原子层沉积(Atomic Layer Deposition，ALD)技术作为一项精确表面层制备技术，其镀制膜层具有极薄厚度、高度均匀性和无针孔等特点。ALD技术在国内应用较少，尤其是在高功率激光系统的光学元件镀膜方面尚未有应用先例。因此，开展基于ALD技术镀制高激光损伤阈值膜层的基础研究工作显得尤为重要。