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谈淑咏; 张旭海; 吴湘君; 蒋建清;
中国材料研究学会;
氮化铬薄膜; 磁控溅射法; 表面形貌; 薄膜粗糙度; 生长指数;
机译:离子能量对磁控溅射法在基底上通过磁控溅射制备纳米TiO_2薄膜的生长和光学色散的作用
机译:调制结构对高功率脉冲磁控溅射制备的TiAlsin / CrN薄膜微结构和力学性能的影响
机译:磁控溅射制备的Si掺杂和非掺杂CrN薄膜:结构和机械性能
机译:射频磁控溅射制备掺氮a-SiC薄膜的刻蚀特性和表面形貌
机译:反应磁控溅射生长外延TiN(001)层的表面形貌演变。
机译:更正:SinnarasaI。等。射频磁控溅射制备铜铁矿CuCrO2:Mg薄膜的热电和输运性质。纳米材料20177157
机译:采用非平衡磁控溅射技术制备Cr / CrN纳米多层膜的非均衡磁/电性能溅射技术制备Cr-CrN纳米多层膜的电学性能
机译:通过区域熔融再结晶和随后的外延生长在siO 2涂覆的si衬底上制备的si薄膜中的微秒载流子寿命
机译:在si衬底上生长的gaas薄膜的制备方法及在si衬底上生长的gaas薄膜的制备方法
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