制造装置
制造装置的相关文献在1986年到2023年内共计16631篇,主要集中在化学工业、无线电电子学、电信技术、轻工业、手工业
等领域,其中期刊论文109篇、会议论文2篇、专利文献10340697篇;相关期刊74种,包括现代材料动态、数控机床市场、机电工程技术等;
相关会议2种,包括第十九届玻璃钢/复合材料学术年会、第四届全国机电一体化联合学术会等;制造装置的相关文献由21663位作者贡献,包括不公告发明人、小笠原吉一、泷口哲史等。
制造装置—发文量
专利文献>
论文:10340697篇
占比:100.00%
总计:10340808篇
制造装置
-研究学者
- 不公告发明人
- 小笠原吉一
- 泷口哲史
- 郭超
- 吴文征
- 樋口尚孝
- 冈本英司
- 赵继
- 本田和义
- 胜田祐司
- 中村昌英
- 伴信之
- 冈田健志
- 奥隼人
- 山上利昭
- 山本广喜
- 林峰
- 间渕实良
- 马旭龙
- 玉村周作
- 关俊一
- 苅谷浩幸
- 藤田惠生
- 山崎舜平
- 李桂伟
- 上川将行
- 五味克仁
- 卢秉恒
- 大黑宽典
- 松尾俊明
- 酒本修
- 楠一彦
- 伊贺元一
- 小口裕生
- 张磊
- 石田方哉
- 神藤明日美
- 冈宪一郎
- 村上次伸
- 箕浦洁
- 西村公男
- 加渡干尚
- 平井利充
- 石井敏由记
- 蒋吉利
- 藤本慎吾
- 野村文保
- 陈兆英
- 陈新
- 龟井一人
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王立敏1
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摘要:
近年来随着我国城市化、工业化建设进程的不断加快,邻苯二甲酸酐作为一种有机原料,被广泛地应用于各个行业的发展和建设中,为企业的进一步发展奠定了良好基础。但伴随经济一体化和全球化建设的不断发展,市场对于邻苯二甲酸酐的需求量也在与日俱增。为从根本上满足谁发展需求,加大对邻苯二甲酸酐技术的研发力度,开发成套国产技术建设大型邻苯二甲酸酐装置成为现阶段邻苯二甲酸酐工业化的核心发展方向。鉴于此,本文立足当前邻苯二甲酸酐生产技术现状以及发展动向,阐述了当前国内邻苯二甲酸酐的市场动态,并对提高邻苯二甲酸酐产率的技术进行了全面探析,以期经过不断地操作改进和设备改造,大幅度地提高邻苯二甲酸酐的生产能力。
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陈广兴
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摘要:
伴随着我国社会经济的快速发展,化工产业的发展给人们的生产与生活带来了极大的便捷.但是在化工产业发展的过程中由于催化剂制造装置的设备非常容易受到腐蚀,所以会给整个催化剂制造装置的使用寿命带来严重影响,直接影响着化工企业的安全生产效率.本文通过对于催化剂制造装置设备腐蚀以及预防措施进行分析,明确的催化剂制造装置设备腐蚀的主要原因,并且针对性的提出预防的解决对策.
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孙志永
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摘要:
单晶硅的主要技术参数和生产工艺.IC行业下游单晶硅利用率逐年提高,而依赖硅的电子工业也逐年加深,单晶硅生产要求,因此热工设计要求更加严格.设计优良的热场可以优化炉膛内温度的分布,因此在CZ水晶炉中,将逐渐应用特殊的热场元件,以促进硅单晶生长技术的发展.重点从技术原理、成分原理、氧浓度控制等方面分析了直接拉拔法.
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刘伟
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摘要:
单晶硅组件与多晶硅组件相比,因其具有较高的光电转换率、发电性稳定等优点而在市场上占据重要的地位.单晶硅的主要技术参数和生产工艺,IC 行业下游单晶硅利用率逐年提高,而依赖硅的电子工业也逐年加深,单晶硅生产要求,因此热工设计要求更加严格.设计优良的热场可以优化炉膛内温度的分布,因此在CZ 水晶炉中,将逐渐应用特殊的热场元件,以促进硅单晶生长技术的发展.重点从技术原理、成分原理、氧浓度控制等方面分析了直接拉拔法.
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摘要:
自动化产品市场,自2016年上半年开始,以日本、韩国、中国为中心,与有机EL、液晶、半导体、锂电池及智能手机等行业制造装置相关的需求在逐步扩大,预计今后仍将以高水准推移。三菱电机名古屋制作所及中国的三菱电机自动化机器制造(常熟)有限公司自2016年以来,以过去最高水准进行产品生产。
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摘要:
本实用新型提供一种液化天然气的制造装置,是以焦炉气为主原料的液化天然气的制造装置,包括气体精制单元、甲烷化单元以及液化单元;还包括压缩单元,其将在所述甲烷化单元前设置的气体精制单元的气体入口压力控制为1.0~2.0MPa G,将经过所述甲烷化单元后的合成天然气的压力上升为3.0MPa G以上。
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王悦
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摘要:
综述了单晶硅的主要技术参数和生产工艺.IC行业下游单晶硅利用率逐年提高,而依赖硅的电子工业也逐年加深,单晶硅生产要求,因此热工设计要求更加严格.设计优良的热场可以优化炉膛内温度的分布,因此在CZ水晶炉中,将逐渐应用特殊的热场元件,以促进硅单晶生长技术的发展.重点从技术原理、成分原理、氧浓度控制等方面分析了直接拉拔法.
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- 佳能株式会社
- 公开公告日期:2002-02-13
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摘要:
在使用电子发射元件特别是表面传导型电子发射元件的图像形成装置(电子束装置)的制造工艺中,其上形成布线和元件电极的电子源衬底上的布线与面板的电极相对,在布线与电极之间施加规定电压,从而预先产生放电现象,于是可消除突起等。以这种方式,当对电子源进行电场施加工艺时,就可消除在驱动以图像形成装置为代表的电子束装置中会引起电子源中放电现象的如突起之类的因素,从而实现即使长时间进行图像显示,其显示特性也优良且没有像素缺陷的图像形成装置。
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- 松下电器产业株式会社
- 公开公告日期:2001-05-02
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摘要:
有机薄膜的制造方法,其特征在于,包括被膜形成步骤和除去步骤,所述被膜形成步骤是通过使具有下述官能团的分子簇与该基材表面接触,所述官能团对具有活泼氢的官能团显示反应活性,使之结合在该基材上,由该分子簇形成被膜;所述除去步骤是用含有选自酮、亚烷基二醇类以及烷氧基醇类中至少一种的洗涤剂除去未结合在所述基材上的所述分子。这样,可以不使用氯类有机溶剂,形成膜厚均一的有机薄膜,提供能减小环境负荷的有机薄膜的制造工艺。因此,本发明在工业上意义很大。
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