减反射

摘要： 金刚线切割多晶硅片表面减反射结构难以制备的问题阻碍着多晶硅光伏的进步。银辅助的酸腐蚀是解决这一问题的较好方法,但银的消耗和废液处理等增加了成本。本研究提出了醋酸铜辅助催化刻蚀金刚线切割多晶硅片方案,考察了刻蚀反应温度和时间对硅片表面形貌的影响,确定了最优的反应温度和时间分别为25°C和5 min。在此条件下,所获得的多晶硅在300~1100 nm波段的平均反射率为15.1%。按照标准太阳电池制备工艺流片后,所获太阳电池的光电转换效率为19.4%。

摘要： 将金属铬引入双银介质层不同位置,使用真空磁控溅射法制备一系列含金属铬的双银试样。使用Filmstar6300在线光度计测试所有样品玻面颜色并对比偏角色数值。实验表明:金属铬位于双银中间介质层时可大幅度减小双银偏角色变化,同时通过膜层优化可使膜面达到减反效果。

摘要： 中波红外即3~5μm波段红外线,在大气中具有良好的透过率。中波红外探测器被广泛应用于红外制导、红外成像、气体检测分析、空间遥感等领域。为提高系统性能和增强探测器对各种恶劣工作环境的抵抗力,在光学窗口和薄膜表面常镀制高硬度薄膜进行保护。本文从硬质薄膜入手,阐述了中波红外减反射硬质薄膜的设计、材料选择及应用,根据不同材料体系总结了金属氧化物、氮化物、类金刚石及碳化物薄膜等常见中波红外波段硬质薄膜的光学、力学性能等,并概述了晶界强化、模量差理论、纳米复合材料等目前主要的薄膜硬度强化方法。

摘要： 提出了一种基于光学折射原理的无损检测眼镜镜片折射率的方法.在使用三点弧度仪和CMM三坐标测量仪的基础上,以具有光学减反射(AR)薄膜的非球面镜片为测试对象测量折射率,并对结果进行分析讨论.此外,本研究通过对测量原理的优化和扩展,应用已知折射率的辅助软性凝胶设计了测试过程更为简化的第三种检测方案,折射率的准确度显著提升.

摘要： 提出了一种基于光学折射原理的无损检测眼镜镜片折射率的方法。在使用三点弧度仪和CMM三坐标测量仪的基础上,以具有光学减反射(AR)薄膜的非球面镜片为测试对象测量折射率,并对结果进行分析讨论。此外,本研究通过对测量原理的优化和扩展,应用已知折射率的辅助软性凝胶设计了测试过程更为简化的第三种检测方案,折射率的准确度显著提升。

摘要： 中国科学院上海光学精密机械研究所薄膜光学实验室在基于低温等离子体增强原子层沉积的紫外减反射激光薄膜研究中取得新进展,初步实现了紫外减反射薄膜的损伤阈值提升。原子层沉积技术具有精确的厚度可控性、高均匀性、优异的共形性和较高的激光损伤阈值,在激光薄膜领域具有良好前景。

摘要： 本专利提供了一种用于光学窗口的金刚石基多层抗反射涂层的系统和方法。一种用于光学窗口的抗反射涂层,可包括光学级硅衬底,在基体上的第一层多晶金刚石膜,在第一层多晶金刚石膜上的锗膜,在锗膜上的熔融石英膜,在熔融石英膜上的第二层聚晶金刚石膜。制造金刚石基多层抗反射涂层的方法包括以下步骤:清洁和晶种化光学基底,在光学基板上形成第一层金刚石层,在第一层金刚石层上形成锗层,在锗层上形成熔凝二氧化硅层,清洗并晶种锗层,以及在锗层上形成第二层金刚石层。

摘要： 为了减少磁控溅射法沉积MgF2薄膜的F贫乏缺陷,在工作气体Ar2中加入SF6作为反应气体,在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了MgF2薄膜,研究了溅射功率对MgF2薄膜化学成分、微观结构和光学性能的影响.结果表明,随着溅射功率从115 W增加到220 W,F:Mg的原子比不断增加,185 W时达到2.02,最接近理想化学计量比2:1;薄膜的结晶度先提高后降低,最后转变为非晶态;MgF2薄膜的颗粒尺寸先是有所增加,轮廓也变得更加清晰,最后又变得模糊.MgF2薄膜的折射率先减小后增大,在185 W时获得最低值,550 nm波长的折射率1.384非常接近MgF2块体晶体;镀膜玻璃在300～1100 nm范围内的透光率(以下简称薄膜透光率)先增大后减小,185 W时达到94.99％,比玻璃基底的透光率高出1.79％.

摘要： 随着我国社会经济的飞速发展，能源危机问题越来越严重，在这种形势下，太阳能作为一项取之不尽用之不竭的能源，得到了世界各国的高度重视。近年来，太阳能电池的大规模使用使减反射光伏玻璃的需求也在不断增加，光伏玻璃减反射技术的研究也成为了光伏领域的一个主要研究热点。鉴于此，本文主要分析探讨了梯度折射率减反射光伏玻璃方面的内容，以供参阅。

摘要： 本文从减反射镀膜玻璃的原理出发,探讨了减反射镀膜玻璃透光率增加的要求,比较了减反射镀膜玻璃对组件功率增益的测试方法.对反射镀膜玻璃进行了测试、分析,确认了减反射镀膜玻璃可以提高组件输出功率2.5%；使用盖板法可以简单有效地评估减反射镀膜玻璃对组件功率输出的增益效果,并且可以作为生产监控的一个有效的方法.

摘要： 电化学硅技术是一种常用的制备各种尺寸硅孔的技术,被广泛用于微纳加工、单晶硅减反射等领域.将多晶硅片置于HF、N,N-二甲基甲酰胺、去离子水的混合溶液中,研究电流密度、腐蚀时间对多晶硅绒面形貌以及表面反射率的影响.实验结果表明,可以在多晶硅上获得平均孔径为5-20μｍ,深为1-3μｍ的腐蚀坑,其加权反射率达到11.3%,较处理之前降低了60%.

摘要： 当光栅周期小于所使用的波长时,亚微米的表面微结构可以具有减反射作用.本文报导率了理论研究和制作技术,成功地制作了周期为400nm等的超微细结构,测量结果与理论值具有良好的一致性.

摘要： 本文针对当前普通镀膜玻璃存在的光污染问题,从产生光污染的本质原因出发,介绍了两种目标较行之有效的解决方案,一种是通过增加漫反射和散射方法来达到消除光污染的目的,另一种是通过减反射的方法来达到消除光污染的目的.希望对彻底解决光污染难题有所帮助.

摘要： 本发明公开了一种用于减反射镀膜液的树脂造孔剂及其制备方法和一种减反射镀膜液，以质量百分含量计，所述树脂造孔剂包括如下原料组分：单体组合物34％‑45％、分散溶剂54.5％‑65％、引发剂0.5％‑1％。本发明在综合考虑了树脂造孔剂与硅溶胶的相容性及两者在镀膜液成膜固化钢化阶段的相互作用情况，通过分子设计，合成出了一种树脂造孔剂。该树脂造孔剂既可以与硅溶胶有较好的相容性，又可以在固化钢化阶段与硅溶胶相互作用实现减反膜层的表面闭孔。这一树脂造孔剂的合成，在不需添加封孔物质的情况下就可以实现膜层表面闭孔，减少了减反射镀膜液的配方中原料的种类，也无需复杂的配制工艺、工艺简便，节约了成本。以最少的原料构成实现了闭孔的技术目的，得到了配制简单的减反射镀膜液配方。

摘要： 本发明提供甲壳素纳米纤维减反射涂层制备方法、减反射涂层及基底，首先制备甲壳素纳米纤维水悬浮液，将基底放入装有甲壳素纳米纤维水悬浮液的容器中，容器放置在正极与负极之间，在垂直于基底待涂表面的方向施加直流电场，强度为0.56‑5.59x103V/m，使表面带有电荷的甲壳素纳米纤维向基底待涂表面移动并沉积在基底待涂表面，得到带有甲壳素纳米纤维减反射涂层的基底，本发明可在10‑20min内完成在基底表面构筑减反射涂层，所述减反射涂层在波长400‑800nm范围内的透光率增益可达5％，可以应用于塑料和生物材料基底。

摘要： 本发明涉及一种减反射玻璃的制备方法及减反射玻璃。一种减反射玻璃制备方法，包括以下步骤：在玻璃基底表面制备第一高折射率层；在所述第一高折射率层的表面制备第一低折射率层；在所述第一低折射率层表面制备第二高折射率层；在所述的第二高折射率层的表面制备第二低折射率层；及在所述的第二低折射率层表面制备保护层；其中，所述第二高折射率层的材料为CeO2‑TiO2复合材料。上述减反射玻璃的制备方法制备得到的减反射玻璃能够防紫外线且呈中性色。

摘要： 本发明提供甲壳素纳米纤维减反射涂层制备方法、减反射涂层及基底，首先制备甲壳素纳米纤维水悬浮液，将基底放入装有甲壳素纳米纤维水悬浮液的容器中，容器放置在正极与负极之间，在垂直于基底待涂表面的方向施加直流电场，强度为0.56‑5.59x103V/m，使表面带有电荷的甲壳素纳米纤维向基底待涂表面移动并沉积在基底待涂表面，得到带有甲壳素纳米纤维减反射涂层的基底，本发明可在10‑20min内完成在基底表面构筑减反射涂层，所述减反射涂层在波长400‑800nm范围内的透光率增益可达5％，可以应用于塑料和生物材料基底。

摘要： 本发明提供了一种减反射耐摩擦膜及制备方法、减反射耐摩擦镀膜玻璃、防污镀膜玻璃和电子设备。所述减反射耐摩擦膜采用混合气体进行分压和辉光放电溅射，在玻璃基片的表面溅镀而成，其中，所述混合气体主要由第一惰性气体和第二惰性气体混合而成，第一惰性气体为氦气或氖气中的一种或两种的组合，第二惰性气体为氩气、氪气或氙气中的一种或两种以上的组合，且第一惰性气体在混合气体中的体积占比为60％‑80％。本发明利用氦气和氖气分子体积和质量远小于氩气、氪气和氙气，提高减反射膜在水平方向的生长速度，实现多晶态柱状体聚集性生长，降低减反射膜的粗糙度，得到高致密度的减反射膜，从而耐摩擦次数提高至10000次以上。

摘要： 本发明涉及一种防静电减反射光学膜、防静电涂液、减反射涂液及制备方法和应用。其中，防静电减反射光学膜包括：柔性基底，以及附着于柔性基底的两侧表面上的防静电涂膜层，至少一侧的防静电涂膜层上还附着有减反射涂膜层；该光学膜在通过柔性基底的两侧表面上先涂布防静电涂液，经预烘干后再涂布减反射涂液，经过再次预烘干和紫外固化后得到。该光学膜反射率低、透射率高、防静电性能优。

摘要： 本发明涉及加硬减反射柔性光学膜、加硬涂液、减反射涂液以及制备方法和应用，该光学膜通过在柔性基材上涂布一层加硬液后再涂布一层减反射涂液制得；其中：加硬液主要由树脂、单体、溶剂、润湿流平剂和光引发剂组成，减反射涂液主要由树脂、中空有机硅纳米粒子、单体、溶剂、润湿流平剂、表面爽滑剂和光引发剂组成。采用本发明的光学膜反射率低、透射率高、机械性能强、防指纹。

摘要： 本发明公开了一种减反射片制备方法及减反射片，所述减反射片应用于3.7‑4.8μm波长范围，所述减反射片包括基片、第一膜层、第二膜层以及第三膜层，所述基片为硫系玻璃；所述制备方法包括：确定所述电子枪的二次电子的轰击位置；在所述轰击位置放置导热板；对所述真空腔室进行抽真空操作，并通过所述加热装置对所述基片进行梯度加热；当所述真空腔达到预设真空度并且所述基片达到预设温度时，通过所述电子枪执行镀膜操作。本申请通过使用导热板，对电子枪在进行膜层蒸镀时产生的热量进行散热，减小真空腔室内的温度变化，从而解决了现有技术中在非球面硫系玻璃基底上双面镀膜容易脱膜的问题。

摘要： 本发明公开了一种可常温固化的光伏减反射涂膜液的制备方法，以及涂膜液涂覆固化在玻璃基底上形成的光伏减反射玻璃，方法包括以下步骤，在醇溶剂中将烷氧基硅烷与硅烷偶联剂改性的中空二氧化硅纳米球的混合物催化水解1‑8h得到溶液A的步骤；溶液A中加入交联剂并在40‑80°C下老化至少24h得到涂膜液的步骤，本方案中在烷氧基硅烷水解形成的溶胶液的过程中加入偶联剂改性的中空二氧化硅纳米球，在偶联剂的作用，二氧化硅纳米球与溶胶液稳定结合，并以交联剂使硅溶胶中线型分子之间互连形成网状结构，以使上述涂膜液在常温下即可交联固化成膜，提高涂膜固化的便利性，且形成的膜层在耐候、疏水、减反射及粘固等性能上得到大幅提升。

摘要： 本发明公开了一种提高减反射镀膜抗脏污性能的封孔剂及其制备方法和一种减反射镀膜液，以质量百分含量计，所述封孔剂包括如下组分：低含氢硅油10‑40％、烯丙基聚醚25‑35％、溶剂30‑60％、催化剂10‑20ppm。本发明中制备的减反射镀膜液，由于添加了提高减反射镀膜玻璃抗污脏性能的封孔剂，封孔剂其表面能低，添加到减反射镀膜液中，易迁移至膜层表面，高温固化过程中，可与镀膜液中的有机硅树脂交联，形成致密结构，进而在膜层表面起到封孔的作用，降低EVA胶膜、密封硅胶等介质与膜层表面基团的结合力，将其应用于减反射镀膜中在保证膜层高透过率的基础上，提供了优异的抗脏污性能。