光致荧光
光致荧光的相关文献在1989年到2021年内共计114篇,主要集中在物理学、无线电电子学、电信技术、化学
等领域,其中期刊论文88篇、会议论文9篇、专利文献375503篇;相关期刊56种,包括贵州科学、核电子学与探测技术、发光学报等;
相关会议9种,包括中国可再生能源学会2011年学术年会、第一届全国声像资料检验鉴定技术交流会、第十四届全国核电子学与核探测技术学术年会等;光致荧光的相关文献由293位作者贡献,包括巴维真、陈朝阳、黄伟其等。
光致荧光—发文量
专利文献>
论文:375503篇
占比:99.97%
总计:375600篇
光致荧光
-研究学者
- 巴维真
- 陈朝阳
- 黄伟其
- 秦朝建
- 刘秋江
- 张庆瑜
- 朱磊
- 李怀祥
- 李晓峰
- 罗毅
- 丛秀云
- 张荣涛
- 汤新强
- 范艳伟
- 于示强
- 叶宏生
- 夏文
- 徐利军
- 林敏
- 王晓允
- 罗瑞
- 辛萍
- 郝智彪
- 陈克胜
- 万霞
- 刘家兴
- 刘洋
- 吴克跃
- 姚江宏
- 张华
- 张卫东
- 李善锋
- 李波
- 杨文波
- 汪莱
- 王瑞华
- 蔡成兰
- 裴世铀
- 赵婧
- 郭旗
- 铁绍龙
- 陈义珍
- 陈利平
- 韩彦军
- 于磊
- 任在元
- 何为
- 刘世荣
- 刘如彪
- 刘润
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夏文;
罗瑞;
叶宏生;
陈克胜;
林敏;
徐利军;
陈义珍;
张卫东
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摘要:
采用液体成膜法制备了Al2O3:C光致荧光剂量计(OSLD),开展了剂量学性能的初步研究.退火后本底为0.03mGy,均匀性优于2%,在0.02mGy~10Gy测量范围内具有良好线性响应,线性相关系数R2=0.9996,对β、γ射线响应系数差异约10%,对中子响应系数约为β、γ射线的4%~7%,剂量计多次测量响应信号无明显衰减,照后两个月响应变化为5%,可用于一定周期内剂量存档、复测.上述结果表明,液体成膜方法制备的OSLD具有良好的剂量学性能,证明该方法可行.
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刘欣;
黄泽平;
李士玲;
刘昌勋;
黄玉昊;
岳盈桦;
王巍;
邓凤敏
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摘要:
利用脉冲激光沉积方法,不同沉积条件下在SiO2/Si、蓝宝石单晶和石英玻璃3种衬底上制备了c轴择优取向的Eu3+掺杂ZnO (Eu∶ ZnO)薄膜.以SiO2/Si为衬底,具体研究了衬底温度、氧压、激光重复频率及沉积时间对Eu∶ZnO薄膜结晶质量和荧光性能的影响.发现沉积条件相同时,在蓝宝石和SiO2/Si衬底上制备的薄膜结晶质量好于石英玻璃衬底上的.利用273 nm波长的氙灯泵浦,室温下所有样品的光致荧光谱中都测得了稀土Eu3+在616 nm附近的特征发光峰,而且在蓝宝石衬底上生长的Eu∶ZnO薄膜的荧光强度最强.
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周之琰;
杨坤;
黄耀民;
林涛;
冯哲川
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摘要:
为了解决在单晶硅衬底上生长的InGaN/GaN多层量子阱发光二极管器件发光效率显著降低的问题,使用周期性δ型Si掺杂的GaN取代Si均匀掺杂的GaN作为n型层释放多层界面间的张应力.采用稳态荧光谱及时间分辨荧光谱测量,提取并分析了使用该方案前后的多层量子阱中辐射/非辐射复合速率随温度(10~300 K)的变化规律.实验结果表明引入δ-Si掺杂的n-GaN层后,非辐射复合平均激活能由(18±3)meV升高到(38±10)meV,对应非辐射复合速率随温度升高而上升的趋势变缓,室温下非辐射复合速率下降,体系中与阱宽涨落有关的浅能级复合中心浓度减小,PL峰位由531 nm左右红移至579 nm左右,样品PL效率随温度的衰减受到抑制.使用周期性δ型Si掺杂的GaN取代Si均匀掺杂的GaN作为生长在Si衬底上的InGaN/GaN多层量子阱LED器件n型层,由于应力释放,降低了多层量子阱与n-GaN界面、InGaN/GaN界面的缺陷密度,使得器件性能得到了改善.
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刘瑶;
王颖;
郭庆林;
李晓莉;
梁宝来;
王淑芳;
傅广生
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摘要:
采用光致荧光发射谱(PL)和时间分辨荧光发射谱(TRPL)研究了GaAs间隔层厚度对自组装生长的双层InAs/GaAs量子点分子光学性质的影响.首先,测量低温下改变激发强度的PL谱,底层量子点和顶层量子点的PL强度比值随激发强度发生变化,表明两层量子点之间的耦合作用和层间载流子的转移随着间隔层厚度变大而变弱.接着测量改变温度的PL谱,量子点荧光光谱峰值位置(Emax)、半峰全宽及积分强度随温度发生变化,表明GaAs间隔层厚度直接影响到量子点内载流子的动力学过程和量子点发光的热淬灭过程.最后,TRPL测量发现60mL比40mL间隔层厚度样品的载流子隧穿时间有明显延长.
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丰雪;
钱波;
曹萌
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摘要:
通过共形生长薄膜的方法在图形衬底上设计和制备一种新型的光学微腔结构,可以同时实现对光子的限制和对量子点溶液的空间限制.应用这种微腔结构,研究CdSe@ZnS胶体量子点溶液在微腔光子限制作用下的光致荧光特性.通过实验研究分析,发现在微腔光子限制作用下,CdSe@ZnS胶体量子点溶液的荧光强度随着浓度的减小反而逐步增强,与常规容器中的量子点溶液随浓度发光强度变化规律相反;对于小尺寸的光学微腔而言,量子点溶液的发光峰位随浓度增大而出现了蓝移,与常规容器中的量子点溶液发光峰位随浓度变化规律有区别.这些差异体现了微腔作用下量子点溶液光致荧光的不同机制.设计的新型光学微腔产生的限制作用,对于量子点的发光机制产生了重要的影响.
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梁晓韵;
梁威威;
李旭仙;
许海珊;
万霞;
铁绍龙
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摘要:
采用直接沉淀法合成了具有六棱柱形貌的Cu2掺杂ZnO双晶结构材料,研究了Cu2的存在对ZnO双晶的形成及形貌的影响,发现溶液中存在的Cu2物质的量浓度越高,获得的Zn(Cu)O材料粒径越大,形貌从细长棒形逐步变为短粗六方柱体,长径比也从10∶1变到1.2∶1.采用简单的碱腐蚀法获得了管状结构的Cu2掺杂Zn(Cu)O材料,并探讨了管状结构的形成机理.Cu掺杂使得Zn(Cu)O样品的绿光发射由550 nm蓝移至520 nm附近,且强度大幅增加.形成管状结构使绿光发射进一步增强,该发射由Cu2掺杂引起的样品内部的Cu2与Cu+之间的相互转变引起.
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周晓滢;
郭文平;
胡卉;
罗毅
- 《第八届全国LED产业研讨与学术会议》
| 2002年
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摘要:
对利用LP-MOCVD方法生长出的不同Mg掺杂浓度的Mg:GaN样品薄膜的发光特性进行研究.测试手段为光致荧光(PL)和喇曼散射光谱(RS).结果表明:随着Mg掺杂浓度的提高,Mg:GaN材料补偿增大,光致荧光谱红移;材料中的应力先随着掺杂浓度增大而增大,随后因为产生过多的缺陷应力被释放.
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郭成花;
李怀祥;
王瑞华;
张华
- 《2002年中国材料研讨会》
| 2002年
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摘要:
本文以n-Si(80~100Ωcm)为基底制备多孔硅(PS),利用电泳的方法,将ZnO和CdS纳米粒子与多孔硅进行复合,得到了ZnO-PS-ZnO夹心结构和PS/CdS复合结构,在365nm激发光激发下,所得夹心结构的PS的发光波长在600nm,且发光稳定性好.原生PS的发光波长在633nm,而PS/CdS的复合发光波长在700nm,比原生PS红移了70nm,但发光强度减小.本文对复合结构的光致发光机制进行了初步分析.
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陈春涛;
韩宏
- 《第一届全国声像资料检验鉴定技术交流会》
| 2011年
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摘要:
随着可擦笔的应用日渐广泛,利用这一新型书写工具进行的违法活动也在逐步增加,但有关的检验方法的研究尚不多见.本文研究潜在的可擦笔笔迹的光学显现方法.针对目前市场上常见的十几种可擦中性笔和可擦圆珠笔进行了光学特性和显现方法的实验研究.结果表明,运用紫外线激发纸张荧光的方法和利用蓝、绿光激发笔墨材料荧光的方法可以有效地显现大多数的潜在可擦笔笔迹.这种方法无损、快捷、效果好,应当作为处理此类检验问题的首选方法.
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陈春涛;
韩宏
- 《第一届全国声像资料检验鉴定技术交流会》
| 2011年
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摘要:
随着可擦笔的应用日渐广泛,利用这一新型书写工具进行的违法活动也在逐步增加,但有关的检验方法的研究尚不多见.本文研究潜在的可擦笔笔迹的光学显现方法.针对目前市场上常见的十几种可擦中性笔和可擦圆珠笔进行了光学特性和显现方法的实验研究.结果表明,运用紫外线激发纸张荧光的方法和利用蓝、绿光激发笔墨材料荧光的方法可以有效地显现大多数的潜在可擦笔笔迹.这种方法无损、快捷、效果好,应当作为处理此类检验问题的首选方法.
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陈春涛;
韩宏
- 《第一届全国声像资料检验鉴定技术交流会》
| 2011年
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摘要:
随着可擦笔的应用日渐广泛,利用这一新型书写工具进行的违法活动也在逐步增加,但有关的检验方法的研究尚不多见.本文研究潜在的可擦笔笔迹的光学显现方法.针对目前市场上常见的十几种可擦中性笔和可擦圆珠笔进行了光学特性和显现方法的实验研究.结果表明,运用紫外线激发纸张荧光的方法和利用蓝、绿光激发笔墨材料荧光的方法可以有效地显现大多数的潜在可擦笔笔迹.这种方法无损、快捷、效果好,应当作为处理此类检验问题的首选方法.
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陈春涛;
韩宏
- 《第一届全国声像资料检验鉴定技术交流会》
| 2011年
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摘要:
随着可擦笔的应用日渐广泛,利用这一新型书写工具进行的违法活动也在逐步增加,但有关的检验方法的研究尚不多见.本文研究潜在的可擦笔笔迹的光学显现方法.针对目前市场上常见的十几种可擦中性笔和可擦圆珠笔进行了光学特性和显现方法的实验研究.结果表明,运用紫外线激发纸张荧光的方法和利用蓝、绿光激发笔墨材料荧光的方法可以有效地显现大多数的潜在可擦笔笔迹.这种方法无损、快捷、效果好,应当作为处理此类检验问题的首选方法.