窄带滤光片

摘要： 5G前传网络中,为满足通信网络对分光器件的使用要求,设计了一种新的分光结构,减小器件的尺寸,降低分光器件与光纤的耦合难度。为了达到降低器件插入损耗的目的,基于全介质法布里-珀珞滤光片的膜系设计理论,研制一种近红外窄带滤光片。选择Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)为高低折射率材料,采用光控-晶控综合监控方法降低膜厚监控误差,最终制备得到光谱性能好的窄带滤光片。光谱检测通带平均透过率为97.64%,最小透过率为96.36%,反射带截止深度为OD3,满足最大插入损耗小于1.2 dB的使用要求。

摘要： 本文对人脸识别中使用的940 nm窄带滤光片进行设计及制备,研制一种具有低角度效应的窄带滤光片。选择TiO2、SiO2作为高、低折射率材料,在Essential Macleod软件中对膜系进行设计,通过改变间隔层材料对膜系进行优化,最终设计的膜系层数为11,膜系总厚度为2480.76 nm。采用电子束热蒸发沉积技术对薄膜进行镀制,使用傅里叶红外光谱仪完成透射率光谱特性测试。最终研制的滤光片中心波长为940 nm,在截止区间(200~1100 nm)内,通带透射率大于80%,平均截止透射率小于1%,0°~22°通带偏移量为14 nm。

摘要： 从光学薄膜理论出发,讨论并改进了光倾斜入射情况下红外窄带滤光片的光学性能改变,从而使窄带滤光片的倾斜使用性能得到改善,拓宽了滤光片的工作角度.

摘要： 目的采用热蒸发沉积技术制备可用于人脸部识别的850 nm滤光片,研究滤光片的激光损伤阈值以及薄膜内部的电场分布。方法采用TFC膜系仿真设计软件完成850nm滤光片的设计与优化。采用真空箱式镀膜机,通过增加挡板、调整监控波长,以离子束辅助热蒸发沉积技术完成滤光片的制备。结果通过紫外-红外分光光度计实现了在中心波长透射率为83.05%、其他波段T<5%的光谱特性测试。采用R-on-1的激光损伤测试方法得到TiO2/SiO2组合滤光片的激光损伤阈值达4.2J/cm^2,ZnS/MgF2组合滤光片为2.8 J/cm^2。TiO2/SiO2组合滤光片空气-薄膜界面电场强度为0.3474,ZnS/MgF2组合滤光片为0.9357。分析显微镜下的微观结构得到,相比TiO2/SiO2组合,同一能量下,ZnS/MgF2组合的薄膜激光损伤斑较大,易出现损伤。结论可以通过增加挡板、调整监控波长的方式实现窄带滤光片的制备。为了更好地获得激光损伤阈值较高的滤光片薄膜,在设计滤光片时尽可能地降低薄膜与空气界面处的电场分布,即界面处电场强度分布越小,薄膜表面抗激光损伤的能力越强。同时发现TiO2/SiO2组合滤光片激光损伤阈值大于ZnS/MgF2组合滤光片。

摘要： 窄带滤光片设计中,通过改变一些参数可以设计出性能较好的窄带滤光片,但是有些理论设计却和制备的结果不符.为了揭示它们之间的变化关系,在光学薄膜设计软件Essential Macleod中进行了模拟试验.针对窄带膜系中的高低折射率间隔层、反射层层数、干涉级次和腔数对窄带滤光片设计与制备中敏感度的影响进行了分析.结果表明:增加反射层层数,会使陡度变好,半宽度变窄,矩形度变差,同时无论采用高折射率还是低折射率材料为间隔层都会增加膜系的敏感度,增大制备难度;增加干涉级次,会使陡度变好,半带宽变窄,矩形度变好,窄带滤光片的敏感度不会受到影响,然而当采用低折射率材料作为间隔层时,随着干涉级次的增加,敏感层(间隔层)会增大厚度误差和制作难度;增加腔数,会使陡度变好,半宽度变宽,矩形度变好,若以高折射率材料为间隔层则对膜系的敏感度没有影响,但是若以低折射率材料为间隔层则会增加膜系的敏感度.

摘要： 提出用一种使用寿命长、功率消耗低、预热时间短和降低环境污染的白色LED和窄带滤光片组合的单色光源,代替汞灯光源或钠光灯光源.使分光计实验装置的结构更加紧凑,操作简便,达到分光计实验装置一体化的目的.

摘要： 随着空间光谱成像技术的发展,集成滤光片会成为未来空间光谱成像系统实现焦平面集成分光的关键器件.简介了光谱成像和集成滤光片技术,对拼接式集成滤光片进行了研制.分析了四通道红外拼接集成滤光片的设计、制备和测试,研制出长波红外拼接式集成滤光片,测试结果显示最小带宽达到402 nm(中心波长8.2μm),透射率均超过83％,最小拼缝宽度10μm,拼缝平行度达到2μm,通过了空间环境模拟试验考核,满足空间环境使用要求.

摘要： Photocathode radiant sensitivity is an important index to measure response capability of ultraviolet detector,thus its accurate measurement is necessary.Herein,measurement methods of photocathode radiant sensitivity for some type of ultraviolet detector were built,and practical measuring equipment of ultraviolet photocathode radiant sensitivity was constructed.Influencing factors for the measurement of ultraviolet photocathode radiant sensitivity by the equipment were analyzed emphatically.In addition,errors in the measurement of photocathode radiant sensitivity with combinations of UV narrow band filter,optical grating monochromator respectively with radiant illuminometer and radiant power meter were compared,obtaining that the error for measuring photocathode radiant sensitivity by the combination of combined optical grating monochromator with radiant illuminometer was minimum.The expand uncertainty was 9%,which had absolute advantages than other three combinations with expand uncertainties of 19.4%,19% and 11.2%.The research achievement can support the research and development of domestic ultraviolet detectors,thus providing an effective and accurate detection method for improving and promoting the technical performance of ultraviolet detectors.%光阴极辐射灵敏度是衡量紫外探测器响应能力的一项重要指标,实现其准确测量至关重要.本文建立了某型紫外探测器光阴极辐射灵敏度测量方法,搭建了实用的紫外光阴极辐射灵敏度测量装置,重点分析了利用该装置进行紫外光阴极辐射灵敏度测量时的影响因素,对比了紫外窄带滤光片、光栅单色仪、辐射照度计和辐射功率计等不同组合方式进行光阴极辐射灵敏度测量时的误差情况,得出光栅单色仪配辐射功率计方式在光阴极辐射灵敏度测量时的误差最小,扩展不确定为9%,相比其它三种组合19.4%、19%和11.2%的扩展不确定度具有绝对优势.该研究成果用于辅助国产紫外探测器技术研发,为进一步改进提升其技术性能提供了有效且准确的检测手段.

摘要： 本文针对中波红外窄带滤光片在研制过程中引入的膜厚误差,讨论了光电极值法膜厚监控误差对光谱的影响.通过仿真实验,分析了各层膜厚误差对窄带滤光片光谱影响的不同程度.结果显示,半波层以及半波层附近的膜层产生的膜厚误差对光谱影响很大;高折射率膜层的膜厚误差对窄带滤光片光谱的影响比低折射率膜层的膜厚误差影响更大;高折射率膜层的膜厚负误差比正误差影响更大,低折射率膜层反之;两个半波层膜厚误差一致时,峰值透过率不降低,但中心波长有偏移.

摘要： 研究了采用等离子辅助技术制备窄带滤光片的工艺.介绍了等离子辅助蒸镀系统的基本工作原理,描述了优化膜厚均匀性的过程。在有色玻璃上制备了由多层TiO2和SiO2薄膜组成的窄带滤光片,测试并分析了窄带滤光片的性能.试验结果表明,采用等离子体辅助蒸镀技术能够批量制备具有优良光学性能的窄带滤光片.

摘要： 研究了采用等离子辅助技术制备窄带滤光片的工艺。介绍了等离子辅助蒸镀系统的基本工作原理，描述了优化膜厚均匀性的过程。在有色玻璃上制备了由多层TiO和SiO薄膜组成的窄带滤光片,测试并分析了窄带滤光片的性能。试验结果表明,采用等离子体辅助蒸镀技术能够批量制备具有优良光学性能的窄带滤光片。

摘要： 本文通过对国产上反射法监控光学自动镀膜机的监控精度分析,用TFCalc软件计算了三腔滤光片可能的光谱性能,采用半波控制法进行监控,制作了半带宽30nm的1.06μm三腔窄带滤光片,验证了理论分析的正确性,证明采用非垂直入射监控也能得到性能较好的窄带滤光片.

摘要： 总结了波分复用薄膜干涉窄带滤光片的几种设计方法,在此基础上用计算机进行规整系自动设计的方法设计出了50GHz的滤光片,并计算出了它的群延迟.

摘要： 本文介绍了一种高温条件下光学材料透过率测量装置,该装置采用硅碳棒作为红外光源,并采用窄带滤光片进行滤光,提供红外单色光;采用斩波器对红外光进行调制;采用精密温控炉加热样品材料,并利用交流锁相放大技术测量红外信号;利用平面反射镜组将红外一束红外光分为两束,分别作为样品光路和参考光路.从而实现了温度范围从室温至700°C,波长范围从1μm～14μm红外波段的高温透过率测量.介绍了测试装置工作原理以及测量装置组成原理,最后给出了利用该装置测量得到的蓝宝石光学材料的高温透过率.

摘要： 基于黑体辐射原理,设计了一种可用于金属冶炼测温的双波长光电高温计.该高温计利用和钢水达到热平衡的石英玻璃窗作为发光体,实现浸入式测温,减少了环境干扰(如灰尘、水汽等)带来的误差.通过透镜、二向分光镜、窄带滤光片、光电转换器件实现了两路光信号的传输采集和转换.设计了以SDuC812为核心进行数据采集、信号处理、温度显示的二次仪表电路.实验给出了该高温计的稳定度,验证了该检测方法的可行性。

摘要： 非相干激光探测系统的主要性能很大程度上取决于它所接收到的背景辐射的强弱,本文定量地计算了在各种背景条件下太阳直射地面的光谱辐射照度、太阳经大气散射后的光谱辐射亮度,为优化激光系统性能并提高其环境适应形提供了依据.在此基础上,根据背景辐射与激光脉冲的性能差异,给出了较为有效的抑制背景辐射的方法,并且探讨了用于抑制背景辐射的关键元件—窄带滤光片的应用要求.

摘要： 一种彩色滤光片用感光性树脂组合物，其含有：含有具有酸基的结构单元(a)和具有环状醚基的结构单元(b)的共聚物(A)、通过热和/或紫外线照射产生酸的化合物(B)、溶剂(C)、反应性稀释剂(D)、光聚合引发剂(E)以及着色剂(F)。

摘要： 本发明的课题是提供一种彩色滤光片用着色组合物，其不仅耐热性、耐光性等坚牢性优异，涂膜异物较少，保存稳定性良好，而且亮度以及对比度较高，表现相同颜色时膜厚变薄。通过由下述通式(1)或(2)所表示的化合物构成的偶氮颜料解决了前述课题。在通式(1)中，R1代表卤素原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烷氧基、或可具有取代基的芳氧基。R2以及R3分别独立地代表氢原子、可具有取代基的烷基、或可具有取代基的苯基。X1～X4分别独立地代表氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烷氧基、羟基、氰基、硝基、羧基、磺基或卤素原子，

摘要： 本发明涉及用于确定由干涉滤光片反射的比色特性的方法，所述方法包括以下步骤：确定(E30)物体的比色坐标；以及根据所确定的比色坐标，遵守等感知定律，确定(E32，E34)由该干涉滤光片反射的至少一种比色特性(C＊f)。本发明涉及用于沉积这种干涉滤光片的方法以及由干涉滤光片和物体组成的组件。

摘要： 一种红外光截止滤光片，包含：花青色素，其含有具有聚次甲基和位于聚次甲基的各末端的含氮杂环的阳离子、以及三(五氟乙基)三氟磷酸阴离子；以及含有由下式(1)所表示的单元结构的丙烯酸聚合物。

摘要： 本申请总体来说涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种滤光片bank的制备方法、滤光片bank、滤光片及显示装置，滤光片bank采用上述滤光片bank的制备方法加工而成，滤光片安装有上述滤光片bank，显示装置包括基板及上述滤光片，所述基板设置有封装层，所述滤光片位于所述封装层外侧，制备方法包括：在基板上形成第一结构层，在所述第一结构层上形成第二结构层，对所述第一结构层进行图样化，在所述第二结构层形成反光膜，反光膜有效提升蓝光利用率，提高光转化效率，同时有效减少了光串扰现象。

摘要： 一种红外光截止滤光片，包含：花青色素，其含有具有聚次甲基和位于聚次甲基的各末端的含氮杂环的阳离子、以及三(五氟乙基)三氟磷酸；以及共聚物，其含有来自第1单体的第1重复单元、和来自与所述第1单体不同的第2单体的第2重复单元。第1单体具有酚性羟基。

摘要： 一种彩色滤光片用感光性树脂组合物，其含有：含有具有酸基的结构单元(a)和具有环状醚基的结构单元(b)的共聚物(A)、通过热和/或紫外线照射产生酸的化合物(B)、溶剂(C)、反应性稀释剂(D)、光聚合引发剂(E)以及着色剂(F)。

摘要： 本发明的课题是提供一种彩色滤光片用着色组合物，其不仅耐热性、耐光性等坚牢性优异，涂膜异物较少，保存稳定性良好，而且亮度以及对比度较高，表现相同颜色时膜厚变薄。通过由下述通式(1)或(2)所表示的化合物构成的偶氮颜料解决了前述课题。在通式(1)中，R

摘要： 本发明涉及一种用于近红外窄带滤光片的AR膜层及滤光片，其中所述AR膜层(1)镀制所述滤光片的玻璃基板(2)上，所述AR膜层(1)包括第一折射率材料层和第二折射率材料层或者包括第一折射率材料层、第二折射率材料层和第三折射率材料；所述第三折射率材料层的折射率大于所述第一折射率材料层折射率，所述第二折射率材料层的折射率大于所述第三折射率材料层的折射率。采用本发明的AR膜层制作滤光片，能够在保证近红外光透过率的情况下，降低膜层厚度，有效改善滤光片的膜层附着力。

摘要： 本实用新型涉及一种用于近红外窄带滤光片的AR膜层及滤光片，其中所述AR膜层(1)镀制所述滤光片的玻璃基板(2)上，所述AR膜层(1)包括第一折射率材料层和第二折射率材料层或者包括第一折射率材料层、第二折射率材料层和第三折射率材料；所述第三折射率材料层的折射率大于所述第一折射率材料层折射率，所述第二折射率材料层的折射率大于所述第三折射率材料层的折射率。采用本实用新型的AR膜层制作滤光片，能够在保证近红外光透过率的情况下，降低膜层厚度，有效改善滤光片的膜层附着力。