抛光工艺

摘要： 为了改善曲轴法兰外圆表面抛光质量,从人员、材料、设备、抛光工艺、检测等角度全面分析研究曲轴法兰抛光表面粗糙度的相关因素,并运用等方差分析、双样本T检验法锁定关键因子,通过试验设计、验证、分析确定最优因子水平,在保证成本效率的同时实现法兰抛光过程能力(Ppk)提升至1.29。

摘要： 介绍了碲锌镉晶片抛光机的工艺过程和原理,研究了抛光工艺中抛光液粒度、抛光压力、抛光液流量和工作台转速对晶片表面粗糙度及平整度的影响,并提出了提高晶片抛光加工表面质量的方法和实际加工效果。

摘要： 航空发动机叶片的高效率自动化抛光是替代人工打磨、保证精加工型面质量的重要手段。本研究在前期研制的阵列加工机床上,针对多主轴阵列抛光时由批量叶片制造误差引起的抛光轨迹自动化调整需求,开展待抛光叶片变形分析及进排气边关键区域的抛光工艺试验,由此建立以抛光去除量差异最小为目标函数,表面粗糙度为约束条件的阵列抛光轨迹调整算法,并利用数控系统坐标转换功能实现G代码的自动调整。在保证阵列抛光精度及表面粗糙度的前提下,达到高效率多主轴同步抛光的目的。采用4件典型叶片进行阵列抛光验证,抛光后线轮廓度≤0.032 mm,表面粗糙度R_(a)<0.4μm,平均单件叶片抛光工时达到2.75 min。

摘要： 本文从某公司的发动机止推面失效案例展开,重点讨论止推面精车加抛光工艺的质量改进和提升的方案,从而满足产品性能使用的要求。曲轴作为发动机的主要动能输出单元,承受着活塞往复运动所带来的冲击力并输出动能,因此对于其表面精度、动平衡以及硬度等都有较高的要求。

摘要： 为获得良好的抛光表面质量,提出一种针对自由曲面的机器人摆线抛光轨迹多参数优化方法.首先,基于人工神经网络建立抛光表面材料去除量分布均匀性预测模型;然后,提出一种基于遗传算法的摆线轨迹多参数组合优化算法;最后,经材料去除量仿真实验和机器人抛光验证,该方法能有效控制抛光表面材料去除量的均匀性,获得较好的镜面抛光效果.

摘要： 超精密车削技术广泛应用于铝合金反射镜制造。直接超精密车削加工的铝合金镜面应用于可见光波段时会出现衍射效应,严重影响镜面的光学性能。为抑制衍射效应目前普遍对超精密车削铝合金镜面进行抛光。抛光工艺加工时间长、成本高,难以满足高质量镜面批量生产需求。为此,本文针对铝合金超精密车削镜面衍射效应的来源和抑制技术开展了研究。

摘要： 针对SLM成型的316L不锈钢表面开展磁流变抛光关键技术研究。设计点阵簇磁流变抛光工具和仿真优化工具的磁路,并规划抛光路径。利用该工具对SLM成型的316L金属平面样件进行抛光工艺研究,分析抛光路径、工作间隙、主轴转速和工作进给等因素,得出以下结论:抛光轨迹线覆盖面积随偏置距离、偏摆幅度和偏摆角度的增大均为先减小后增大;粗糙度值随工作间隙、主轴转速、工作进给的增加,先减小后增大;残余应力随工作进给、主轴转速、工作进给的增加而减少。

摘要： 抛光是一个研磨的过程,抛光蜡又分粗蜡、细蜡(镜面蜡)及上光蜡3种(图1)。随着抛光蜡使用的磨料颗粒越来越细小,从而完成了从粗到细的抛光及增光的过程。第一步:粗抛光,消除调节纹理,清除颗粒及涂料垂流时研磨所产生的砂纸印。第二步:精细抛光,消除粗抛光过程中造成的漩涡印以产生光泽。第三步:上光,消除精细抛光过程中造成的漩涡印以产生光泽。

摘要： 为改善现有碳化硅抛光方法存在的效率低、有污染、损伤大等问题,提出采用机械研磨与光催化辅助化学机械抛光组合工艺抛光单晶碳化硅晶片.光催化辅助化学机械抛光利用纳米二氧化钛在紫外光照射下生成羟基自由基的强氧化作用原子级去除碳化硅.通过L9(33)正交试验研制光催化辅助化学机械抛光抛光液,采用对碳化硅晶片表面粗糙度跟踪检测的方法确定优化加工工艺.甲基紫有机显色剂静态氧化试验结果表明:光催化剂对抛光液氧化性的影响最大,其次是电子俘获剂,再次是分散剂;较好的抛光液配方为二氧化钛0.5g·L－1、过氧化氢1.5mol·L－1、六偏磷酸钠0.1g·L－1.确定的优化抛光工艺为:采用5μm和2μm金刚石微粉分别研磨单晶碳化硅晶片30min,材料去除率分别为8.72μm/h和4.56μm/h;然后采用光催化辅助化学机械抛光单晶碳化硅去除机械研磨带来的损伤,粗抛光选用0.5μm氧化铝微粉抛光60min,精抛光选用0.05μm氧化铝微粉抛光50min,粗抛光和精抛光的材料去除率分别为1.81μm/h和1.03μm/h.用该工艺抛光单晶碳化硅,获得的表面粗糙度约为0.47nm,基本能满足单晶碳化硅高效、超光滑、低损伤的抛光要求.

摘要： 分析了电解抛光装置的研究现状,概述了电解抛光技术的原理及特点,研究开发了一种现场金相适用的电解抛光装置,并对装置的结构特点、使用方法、安全性进行了介绍.研究了承压设备常用材料电解抛光工艺,结果表明,电解抛光具有比机械抛光的抛光效果好、抛光效率高、劳动强度低等优点.

摘要： 碳化硅作为新一代高效节能半导体衬底材料,其表面必须得到高质量抛光才能应用,本文针对现有抛光方法效率低、有污染、损伤大等问题,提出一种光催化辅助化学机械抛光碳化硅晶片的绿色高效方法.该方法利用纳米二氧化钛颗粒在紫外光照射条件下产生具有较强氧化性羟基自由基将碳化硅氧化,然后,以机械的方式去除.首先,通过正交试验研制具有高效光催化作用的抛光液.然后,优化两个抛光阶段的研磨与抛光工艺.结果表明,采用金刚石磨料精研磨表面粗糙度为46nm,材料去除率为2.899μm·h-1;光催化辅助化学机械抛光后碳化硅表面粗糙度达到了1.6nm.

摘要： 介绍了设计的止推气浮轴承的结构和工作原理,针对该轴承的工作表面要求达到镜面效果的难题,设计了止推气浮轴承工作表面的研磨与抛光工艺,对研抛过程中的研磨盘转速、研抛压力、磨料种类及粒度等工艺参数进行了单因素试验分析,得到了一组适合止推气浮轴承工作表面研磨抛光的优化组合参数.

摘要： 采用热丝化学气相沉积方法,在孔型经优化设计的扇形孔绞线紧压模内孔沉积了厚度均匀、附着性能优异、相对易于抛光且具有很好的耐磨损性能的硼掺杂微米-本征微米-本征细晶粒复合金刚石薄膜,采用机械自动线抛光、磨料流抛光及手工机械抛光相结合的抛光工艺对内孔工作表面进行抛光,使其整体表面粗糙度Ra值达到50nm以下,然后在铜材质扇形分裂导体绞线紧压生产过程中进行了应用现场试验,可达到改进传统工艺(替代低效的挤压工艺)、显著提高线缆质量等应用效果.

摘要： 达到抛光混凝土规范既取决于抛光时混凝土地板的平整度，也取决于整个抛光过程。地板的平整度对于实现一致的骨料暴露外观至关重要。规范要求混凝土承建商须在最终完工后72小时内测量地板平整度。但可能要到几个月后，抛光混凝土的承接商才会对地板进行抛光，地板的平整度此时可能因为卷曲和变形而发生变化。这个问题必须在指定研磨等级的时候指出，并在施工前的会议上解决。地板的平整度随着时间的变化可能无法达到规范要求的研磨等级。可能有必要在抛光时测量地板的平整度，以便对是否应重新考虑规范研磨等级作出明智的决定。

摘要： 达到抛光混凝土规范既取决于抛光时混凝土地板的平整度，也取决于整个抛光过程。地板的平整度对于实现一致的骨料暴露外观至关重要。规范要求混凝土承建商须在最终完工后72小时内测量地板平整度。但可能要到几个月后，抛光混凝土的承接商才会对地板进行抛光，地板的平整度此时可能因为卷曲和变形而发生变化。这个问题必须在指定研磨等级的时候指出，并在施工前的会议上解决。地板的平整度随着时间的变化可能无法达到规范要求的研磨等级。可能有必要在抛光时测量地板的平整度，以便对是否应重新考虑规范研磨等级作出明智的决定。

摘要： 达到抛光混凝土规范既取决于抛光时混凝土地板的平整度，也取决于整个抛光过程。地板的平整度对于实现一致的骨料暴露外观至关重要。规范要求混凝土承建商须在最终完工后72小时内测量地板平整度。但可能要到几个月后，抛光混凝土的承接商才会对地板进行抛光，地板的平整度此时可能因为卷曲和变形而发生变化。这个问题必须在指定研磨等级的时候指出，并在施工前的会议上解决。地板的平整度随着时间的变化可能无法达到规范要求的研磨等级。可能有必要在抛光时测量地板的平整度，以便对是否应重新考虑规范研磨等级作出明智的决定。

摘要： 绿松石多是作为装饰品出现于历史的长河中,雕刻工艺与其厚重悠久的历史传承相比略显单薄.随着雕刻创作件的被追捧,市场逐渐兴起,绿松石加工工艺也不断的丰富完善.在此背景下,本文以绿松石成矿的原理为着眼点,从创作加工工艺的角度出发,剖析在选料、设计构思、琢磨制作、抛光等工序里绿松石同其它玉种加工工艺存在的异同点.希翼以不同视角来揭示绿松石蕴含的玉性.

摘要： 绿松石多是作为装饰品出现于历史的长河中,雕刻工艺与其厚重悠久的历史传承相比略显单薄.随着雕刻创作件的被追捧,市场逐渐兴起,绿松石加工工艺也不断的丰富完善.在此背景下,本文以绿松石成矿的原理为着眼点,从创作加工工艺的角度出发,剖析在选料、设计构思、琢磨制作、抛光等工序里绿松石同其它玉种加工工艺存在的异同点.希翼以不同视角来揭示绿松石蕴含的玉性.

摘要： 绿松石多是作为装饰品出现于历史的长河中,雕刻工艺与其厚重悠久的历史传承相比略显单薄.随着雕刻创作件的被追捧,市场逐渐兴起,绿松石加工工艺也不断的丰富完善.在此背景下,本文以绿松石成矿的原理为着眼点,从创作加工工艺的角度出发,剖析在选料、设计构思、琢磨制作、抛光等工序里绿松石同其它玉种加工工艺存在的异同点.希翼以不同视角来揭示绿松石蕴含的玉性.

摘要： 本发明揭露出衬底(121)的化学机械式抛光(CMP)，而且特别是，金属化层的化学机械式抛光所用的方法与控制器(150)。在CMP工艺的线性模型中，要处理的金属化层的蚀减通过该过度抛光时间计算，并可能由用来抛光该介电层的个别抛光平台上的额外抛光时间求出，其中该CMP固有特征是由凭经验得到的灵敏度参数所表示。再且，将控制操作设计成为即使随着由于微细工艺变化的灵敏度参数的某种不精确性，也能得到合理的控制器反应。

摘要： 本发明提供一种压花拼图抛光砖的生产工艺，其具体工艺为球磨机制浆——喷雾干燥剂制粉——一次压制成型－－二次布料压制——刮平机构刮平——干燥器干燥——窑炉烧成——抛光机抛光。其特征在于一次定位二次冲压，从布料到压制成型都是在同一压机和模具上完成，图案可嵌入坯体2～10毫米深，而且图案定位准确，经刮平机构刮平后，成品图案可显示出明快的色彩和清晰优美的轮廓。由于采用了一次定位二次压制，整个过程只使用一台压机和一台刮平机，设备简单，工艺过程连续，生产效率大为提高，生产成本降低，适宜大批量生产出具有各种图案的抛光砖。

摘要： 本发明涉及一种铝合金两酸化学抛光添加剂,其特征在于，所述添加剂由70‑80重量份的85％浓磷酸、10‑12重量份的巯基苯基四氮唑、7‑10重量份的聚乙二醇、3‑5重量份的表面活性剂、2‑8重量份的硫酸钠组成，所述光亮剂选自、钼酸钠、藻酸钠、鞣酸中的一种或多种；所述添加剂用于加入铝离子的浓度15‑50g/L的两酸化学抛光槽液中，添加剂的质量用量为槽液体积的7‑10％，所述两酸化学抛光槽液中磷酸与硫酸的质量比控制在4:1‑5:1，所述两酸化学抛光槽液的25°C比重控制在1.74‑1.77，所述两酸化学抛光槽液生产时温度控制在75‑85°C。可以大大提高表面处理工件的良率。

摘要： 一种衬底用抛光垫，其材质为高分子材料，邵氏硬度为70‑75，厚度为2‑3mm，采用所述抛光垫及其抛光装置对衬底进行抛光作业，可降低衬底表面损伤层深度，提高抛光对于平坦度的修复能力，进一步降低衬底抛光后的平坦度数值。

摘要： 本发明公开了一种化学抛光液，其特征在于，包括重量份数的如下原料：磷酸52‑60份，硫酸31‑41份，硫酸铜0.21‑0.31份，草酸0.03‑0.07份，钨酸钠0.54‑0.7份，硫酸铁0.13‑0.17份，硫酸钛0.06‑0.1份，乙二醇1.1‑1.5份；本发明的化学抛光液不受铝制品形状的限制，使得铝制品表面抛光均匀、一致；本发明的化学抛光液处理后的铝制品光泽度高，无流痕；本发明的化学抛光液在处理铝制品时有足够的滞空时间，能够满足自动化生产的需求。

摘要： 本申请涉及化学抛光工艺的技术领域，更具体地说，它涉及一种碱抛光溶液、碱抛光工艺以及碱抛光机。一种碱抛光溶液，由包括以下重量份数的原料制成：90‑110份去离子水、4‑6份氢氧化钠、4‑6份硝酸钠、2‑4份磷酸钠以及4‑8份辅助清理剂，且所述辅助清理剂为羧甲基纤维素钠与烷醇酰胺的混合物。本申请的碱抛光溶液具有降低铝制品表面水洗后仍存在碱抛光溶液的可能性的效果。

摘要： 本发明涉及一种铝合金两酸化学抛光用化抛光亮添加剂。一种铝合金两酸化学抛光用化抛光亮添加剂,所述添加剂由70‑80重量份的85％浓磷酸、10‑12重量份的巯基苯基四氮唑、7‑10重量份的光亮剂、3‑5重量份的表面活性剂组成，所述添加剂用于加入铝离子的浓度15‑35g/L的两酸化学抛光槽液中，添加剂的用量为槽液体积的8‑12％。本发明还涉及抛光工艺。本发明的化抛光亮添加剂在槽液铝离子浓度15‑35g/L时使用，可以保证5252铝合金抛光效果，可以大大减少气痕和流痕。

摘要： 本发明提供了一种环保型等离子抛光液及其制备工艺和抛光工艺，所述抛光液含有比例为2%-6%的抛光盐。一种等离子抛光工艺，所述工艺含有如下步骤：1）制备抛光液；2）将电解液加热至80-120°；3）产品等离子抛光；4）产品抛光完毕，放入纯净水槽进行清洗；5）产品清洗完毕，放入烤箱进行烘烤；6）产品烘烤完毕，进行产品后处理。一种环保型等离子抛光液的制备工艺，所述工艺含有如下步骤：1）调配混合抛光盐；2）将抛光盐放入烤箱45~75度烘烤0.5~2小时，用以蒸发掉不需要的反应物，并防止受潮；3）将加温后的抛光盐放入反应槽内，加入相应比例的纯净水，混合成为电解液。本抛光液使用期限可长达一个月，可以让使用者的成本大大降低，提高生产效率。

摘要： 本申请涉及化学抛光工艺的技术领域，更具体地说，它涉及一种碱抛光溶液、碱抛光工艺以及碱抛光机。一种碱抛光溶液，由包括以下重量份数的原料制成：90‑110份去离子水、4‑6份氢氧化钠、4‑6份硝酸钠、2‑4份磷酸钠以及4‑8份辅助清理剂，且所述辅助清理剂为羧甲基纤维素钠与烷醇酰胺的混合物。本申请的碱抛光溶液具有降低铝制品表面水洗后仍存在碱抛光溶液的可能性的效果。

摘要： 本发明涉及一种铝合金两酸化学抛光用化抛光亮添加剂。一种铝合金两酸化学抛光用化抛光亮添加剂,所述添加剂由70‑80重量份的85％浓磷酸、10‑12重量份的巯基苯基四氮唑、7‑10重量份的光亮剂、3‑5重量份的表面活性剂组成，所述添加剂用于加入铝离子的浓度15‑35g/L的两酸化学抛光槽液中，添加剂的用量为槽液体积的8‑12％。本发明还涉及抛光工艺。本发明的化抛光亮添加剂在槽液铝离子浓度15‑35g/L时使用，可以保证5252铝合金抛光效果，可以大大减少气痕和流痕。