TFT
TFT的相关文献在1989年到2023年内共计4703篇,主要集中在无线电电子学、电信技术、自动化技术、计算机技术、工业经济
等领域,其中期刊论文749篇、会议论文1篇、专利文献3953篇;相关期刊274种,包括印制电路资讯、光电技术、电子产品世界等;
相关会议1种,包括2006全国辐射固化研讨会等;TFT的相关文献由4536位作者贡献,包括白航空、彭寿、刘翔等。
TFT
-研究学者
- 白航空
- 彭寿
- 刘翔
- 张冲
- 美崎克纪
- 吕晓文
- 林承武
- 石龙强
- 谢振宇
- 刘强
- 刘文瑞
- 张弥
- 李艳
- 江可
- 李文辉
- 苏智昱
- 明星
- 郭建
- 陈旭
- 李林
- 崔承镇
- 李兆廷
- 王章涛
- 薛建设
- 刘圣烈
- 孙绪
- 岳凯
- 曾志远
- 周伟峰
- 宋泳锡
- 彭志龙
- 赵宇峰
- 付丽丽
- 王刚
- 周星宇
- 张合静
- 徐源竣
- 龙春平
- 不公告发明人
- 姚琪
- 曹兆铿
- 王威
- 邱海军
- 闵泰烨
- 何基强
- 张生明
- 葛世民
- 凌巍巍
- 邓朝勇
- 井上一吉
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黄霜霜;
马新星;
喻玥;
马国永;
赵辉;
高文;
沈建华;
陈萍;
阳志林;
李连峰
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摘要:
在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量.为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究.首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查.同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价.然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10%以上降至1%以内,有效改善面板显示品质.最后,结合Ex-pertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理.研究发现,像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性,像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现.同时,各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性,以减小耦合电容对显示的影响.
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逄晓枫;
张建国
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摘要:
在经济学视野下,行刑衔接是一种双方互动的关系,必须解决二者间的协调与合作问题,以实现整体利益最大化.基于"智猪博弈"模型,应当充分考虑利用激励措施以促进行政机关对于涉罪案件的移送.按照"成本-收益"的决策思维,公安机关应当承担主观方面的事实证明责任.从供需法则的角度来看,适当降低行政机关移送涉罪案件的证明标准能够更好地衔接刑事司法.对于行刑衔接互动之间存在的信息不对称问题,应强化检察机关作为第三方主体的监督职能.
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邱度金;
刘鹏;
张小宇
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摘要:
基于TFT投影技术的抬头显示器随着视野范围和投影距离的增大,给用户带来了更好的用户体验和驾驶安全性,但随着光学放大率的增大,当TFT工作时要承受更大的背光热量和太阳负载,TFT因温度过高无法工作的问题越来越凸显.为了降低TFT工作时因温度过高无法正常工作的问题,提出了给TFT导热、增大背光散热面积降低TFT温度两种被动散热方法,同时研究了常温和50°C时无对流、有无太阳光照射等不同条件,通过3D建模与热仿真工具得到TFT的最高温度,并制作样品进行了测试.仿真结果与实际最大相差4.7°C,仿真结果准确.给TFT导热方案可降温2.5~4°C,环境温度越低效果越好.增大背光散热面积对降低TFT温度影响不显著,高温下降温幅度为1°C和2.25°C,但对散热器本身温度有明显改善,常温可降14.25°C,高温变化9.9°C.
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韩志慧
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摘要:
本文在现有资源基础上从AOI检测原理出发,结合量产检测的实际情况,分析在线产品的灰阶特性的影响因素发现Mask Defect检出率低的主要原因有以下三点:一是正常产品刻蚀后再做PHT图形,无衬底,开口区透光性高,很多Defect特征减弱,隐藏于信号噪声中;二是多道Mask图形叠加后,TFT图形复杂,灰阶图上信号噪音的区域会变宽,当算法进行降噪滤波处理时容易将真实缺陷过滤;三是AOI 3um检测的图形清晰度不够,导致较多缺陷未被识别出来而造成漏检.由此,针对Mask Defect检测在量产监控中存在的问题,提出了SiO衬底,单层曝光,1um AOI精度检测.该方案大大提升了Mask Defect的在线检出率,对Mask的日常监控管理具有重大意义.
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蔡婷;
王立夫;
王超
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摘要:
当前TFT-LCD事业飞速发展,产品质量作为企业的灵魂,关乎企业的核心竞争力。本文以8.5G TFT产线为例,将DOE方法应用在产品质量检测设备的参数优化实验设计中,希望对企业生产提供有力帮助。Mura一词源于日本,在平板显示领域中,已将Mura作为用来表示显示器一种典型显示缺陷的一个专业术语。当前TFT-LCD各企业中,通常将Mura检测设备用于宏观不良的检查及判定。
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刘伟平
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摘要:
显示面板设计具有独有的设计流程和设计方法学。团队开发的显示面板设计全流程解决方案,从显示面板电路图设计到版图设计,从SPICE建模到SPICE电路仿真,从版图寄生RC参数提取到后仿真,从电路IR-drop分析到热分析,从版图设计规则检查(DRC)、电学规则检查(ERC)、版图电路一致性检查(LVS)最后到掩膜版分析,实现了显示面板的完整设计。同时,在OLED、氧化物半导体薄膜晶体管、异形面板、触摸屏等先进工艺及技术方面开发了全球领先的EDA工具,使客户在显示面板设计技术方面走在了世界前列,为国内显示面板产业赶超国际先进水平提供了强有力的EDA平台支撑。
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林依达
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摘要:
2017年5月,三利谱(002876.SZ)在中小板上市,主要从事偏光片产品的研发、生产和销售,主要产品包括TFT系列和黑白系列偏光片两类.据披露,三利谱抓住中国液晶显示产业快速发展的良好机遇,收入规模持续增长.因产能不足在获取大额订单方面受到束缚,于是通过IPO募集资金3.82亿元,拟投入到深圳龙岗宽幅偏光片生产线建设项目——年产量1000平方米TFT偏光片。
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汪学慧
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摘要:
Q一辆比亚迪E5纯电动车,行驶里程1400km,最近出现不能行驶的故障。该车启动初始能上电,仪表盘上"OK"指示灯变绿,并且出现"已启动,可挂挡行驶"的提示,车辆可以启动和行驶。约行驶1min后,OK指示灯突然熄灭,车辆自动停驶,这时仪表盘上有"请检查动力系统"的提示。
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.
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王宏宇
- 《2006全国辐射固化研讨会》
| 2006年
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摘要:
TFT液晶面板朝向大尺寸LCD TV快速发展,One Drop Filling(ODF)液晶滴注制程已经成为主流技术.ODF框胶材料须具备高度耐久性、信赖性、固化精度及制程操作安定性,由于制程的需要,ODF框胶在未固化前就会和液晶接触,因此降低框胶对于液晶的污染也是开发此项材料的关键.本文介绍可用于ODF框胶材料的低聚物、单体与光引发剂,针对ODF框胶特性和规格要求,例如光放热反应、液晶污染性、材料特性及长兴目前的研究成果做介绍.