首页> 外国专利> A method for controlling the affinity of an antibody for an antigen, an antibody having a modified affinity for an antigen, and a method for producing the same.

A method for controlling the affinity of an antibody for an antigen, an antibody having a modified affinity for an antigen, and a method for producing the same.

机译:一种控制抗体对抗原的亲和力的方法,一种对抗原具有修饰亲和力的抗体,以及一种产生该抗体的方法。

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for controlling an affinity for an antibody of an antibody and an antibody having a modified affinity for the antigen. Depending on the electrical properties of the CDRs based on the amino acid sequences of the complementarity determining regions (CDRs), at least three amino acid residues in the framework region 3 defined by the Chothia method in an antibody may be charged amino acid residues. By substituting with, the above problem is solved. [Selection diagram] None
机译:需要解决的问题:提供一种用于控制抗体和对抗原具有修饰亲和力的抗体的亲和力的技术。根据基于互补决定区(CDR)的氨基酸序列的CDR的电性质,抗体中由Chothia方法定义的框架区3中的至少三个氨基酸残基可以是带电氨基酸残基。通过替换,上述问题得以解决。[选择图]无

著录项

  • 公开/公告号JP2022060392A

    专利类型

  • 公开/公告日2022-04-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 シスメックス株式会社;

    申请/专利号JP20220024848

  • 发明设计人 前田 真吾;福永 淳;

    申请日2022-02-21

  • 分类号C07K16;C12P21/08;C12N15/13;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-25 00:32:17

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