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ELMORE DELAY TIME (EDT)-BASED RESISTANCE MODEL

机译:Elmore延迟时间(EDT)基于电阻模型

摘要

We disclose an integrated circuit design tool for modeling resistance of a terminal of a transistor such as a gate, a source, a drain, and a via. A structure of the terminal is specified in a data structure in memory using a three-dimensional (3D) coordinate system. For each of a plurality of volume elements in the specified structure, an Elmore delay time (EDT) is determined. For those volume elements in the plurality of volume elements that are located on a surface of the gate terminal which faces the channel region, an average EDT (aEDT) is determined based on the EDT. Point-to-point resistance values of the terminal are generated as a function of the aEDT and a capacitance of the terminal.
机译:我们公开了一种集成电路设计工具,用于建模晶体管的端子的电阻,例如栅极,源极,漏极和通孔。 使用三维(3D)坐标系,在存储器中的数据结构中指定终端的结构。 对于指定结构中的多个卷元素中的每一个,确定ELMORE延迟时间(EDT)。 对于定位在面对沟道区域的栅极端子的表面上的多个体积元件中的那些卷元素,基于EDT确定平均EDT(AEDT)。 作为AEDT的函数和终端的电容产生端子的点对点电阻值。

著录项

  • 公开/公告号EP3827369A4

    专利类型

  • 公开/公告日2021-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SYNOPSYS INC.;

    申请/专利号EP20190860003

  • 发明设计人 IVERSON RALPH BENHART;

    申请日2019-09-12

  • 分类号G06F30/367;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-24 22:41:46

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