首页> 外国专利> Electron beam generating source, electron beam irradiation apparatus, and X-ray irradiation apparatus

Electron beam generating source, electron beam irradiation apparatus, and X-ray irradiation apparatus

机译:电子束产生源,电子束辐射装置和X射线照射装置

摘要

Problem to be solved: to provide an electron beam generating source capable of suppressing the axial displacement of the electron emission portion by appropriately applying the pressing force or tensile force of the tension holding portion to the electron emitting portion.The electron beam irradiation apparatus 1 has a filament 10 extending along an axis L and emitting electrons, a movable body 21 connected to one end of the filament 10, and a casing 22 for supporting the movable body 21 along the axis L movably A spring 23 for holding tension of the filament 10 is provided by applying tensile force to the movable body 21.The movable body 21 and the spring 23 are disposed on the axis L.Diagram
机译:要解决的问题:提供一种电子束产生源,其能够通过适当地施加张力保持部分的压力或拉力到电子发射部分来抑制电子发射部分的轴向位移。电子束照射装置1具有 沿轴线L和发射电子延伸的灯丝10,可移动主体21连接到灯丝10的一端,以及用于沿轴线L支撑可移动主体21的壳体21可移动地是弹簧23,用于保持灯丝10的张力 通过向可动主体21施加拉力来提供。可移动主体21和弹簧23设置在轴线L.diagram上

著录项

  • 公开/公告号JP2021168273A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-10-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浜松ホトニクス株式会社;

    申请/专利号JP20200071470

  • 发明设计人 原口 大;長谷川 義人;

    申请日2020-04-13

  • 分类号H01J19/12;G21K5/04;G21K5/02;H01J19/16;H01J35/06;H01J35;H01J1/18;H01J1/22;H05G1;G21K5;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 21:50:35

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号