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DEPTH-MODULATED SLANTED GRATINGS USING GRAY-TONE LITHOGRAPHY AND SLANT ETCH

机译:使用灰度光刻和倾斜蚀刻深度调制的倾斜光栅

摘要

An apparatus with a grating structure and a method for forming the same are disclosed. The grating structure includes forming a wedge-shaped structure in a grating layer using a grayscale resist and photo lithography. A plurality of channels is formed in the grating layer to define slanted grating structures therein. The wedge-shaped structure and the slanted grating structures are formed using a selective etch process.
机译:公开了一种具有光栅结构的装置和用于形成相同的方法。 光栅结构包括使用灰度抗蚀剂和光刻在光栅层中形成楔形结构。 在光栅层中形成多个通道以在其中限定倾斜光栅结构。 使用选择性蚀刻工艺形成楔形结构和倾斜光栅结构。

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