wherein n1, n2, Rc1, and Rc are defined in claim 1. "/>
机译:化学扩增型阳性光敏树脂组合物,一种光敏干膜,一种用于制造光敏干膜的方法,一种制造图案化抗蚀剂膜的方法,一种用基板制造模板的方法,以及制造镀层成型产品的方法和巯基化合物
公开/公告号US11061326B2
专利类型
公开/公告日2021-07-13
原文格式PDF
申请/专利权人 TOKYO OHKA KOGYO CO. LTD.;
申请/专利号US201816136786
申请日2018-09-20
分类号G03F7/004;C08G75/04;G03F7/20;G03F7/039;G03F7/085;C08G75/14;
国家 US
入库时间 2022-08-24 19:54:27