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Copper precursor for intense pulsed light sintering, manufacturing method for thereof, and intense pulsed light sintering method for thereof

机译:用于强脉冲光烧结的铜前体,其制造方法及其强烈的脉冲光烧结方法

摘要

A photo-sintered copper precursor including copper nanoparticles, and an oxide film made of copper (II) oxide (CuO) surrounding the surface of the copper nanoparticles to a predetermined thickness, a method for manufacturing the same, and a method for photo-sintering the same are provided. .
机译:包括铜纳米颗粒的光烧结铜前体,以及由铜纳米颗粒表面的铜(II)氧化铜(CuO)制成的氧化物膜,其具有相同的制造方法,以及光烧结的方法提供了相同的。 。

著录项

  • 公开/公告号KR102242532B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020190029227

  • 发明设计人 김학성;유충현;장용래;추지현;

    申请日2019-03-14

  • 分类号C09D11/037;B22F1;C09D11/033;C09D11/322;C09D11/52;H01B1/16;H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/18;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 18:27:03

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