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HETEROSTRUCTURE LAMINATED THIN FILM, METHOD FOR PRODUCING HETEROSTRUCTURE LAMINATED THIN FILM AND SEMICONDUCTOR DEVICE COMPRISING HETEROSTRUCTURE LAMINATED THIN FILM

机译:异质结构层压薄膜,制备异质结构层压薄膜的方法和包含异质结构层压薄膜的半导体器件

摘要

Embodiments of the present invention relate to a heterostructure laminated thin film, a method of manufacturing the same, and a semiconductor device. The laminated thin film having a heterostructure in which heterogeneous materials are laminated according to an embodiment of the present invention is a first transition of a monolayer including a compound of a first transition metal element and a first chalcogen element. A metal dichalcogenide layer; And a heterostructure including a first oxide layer disposed on the first transition metal dichalcogenide layer and including an oxide of the first transition metal element.
机译:本发明的实施方案涉及一种异质结构层压薄膜,其制造方法和半导体器件。根据本发明的实施方案,具有异质结构的层压薄膜,其中层压过异质材料是单层的第一转变,包括第一过渡金属元件和第一硫代原硫醇元素的化合物。金属二甲基化物层;和包括设置在第一过渡金属二甲基化物层上并且包括第一过渡金属元件的氧化物的第一氧化物层的异质结构。

著录项

  • 公开/公告号KR102239885B1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-04-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR1020190037101

  • 发明设计人 이관형;강소정;

    申请日2019-03-29

  • 分类号H01L21/285;H01L21/02;H01L29/12;H01L33/04;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-24 18:10:18

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