机译:用于防止基底溅射涂层的组合物,衬底溅射涂膜,散射防止基板,用于形成散射防止基板的方法,以及用于防止衬底溅射的形成基材
公开/公告号JP2021050334A
专利类型
公开/公告日2021-04-01
原文格式PDF
申请/专利权人 日本パーミル株式会社;
申请/专利号JP20200157705
发明设计人 安西 英男;
申请日2020-09-18
分类号C09D175/04;C09D5/02;C09D7/63;C09D7/48;
国家 JP
入库时间 2022-08-24 18:02:56