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Laminated structure, semiconductor device, and manufacturing method of laminated structure

机译:层压结构,半导体器件和层压结构的制造方法

摘要

SubjectThe purpose of this invention is to provide an inexpensive stacked structure having a crystalline oxide film which is thermally stable and has excellent electrical properties.SolutionCrystalline substrateA multilayer structure having gallium oxide and a crystalline oxide film having a beta gas structureThe crystalline substrate is a tantalum crystal crystal substrateOn the principal surface of the lithium tantalate crystal substrateA crystalline oxide film containing. Beta. - Ga2O3 is mainly formed.The main surface of the lithium tantalate crystal substrate isAA laminated structure characterized by a m or R plane.Diagram
机译:主题本发明的目的是提供一种具有晶体稳定的结晶氧化物膜的廉价的堆叠结构,具有优异的电性能。解决方案具有氧化镓和具有β气结构晶体基材的氧化镓和晶体氧化物膜的结晶子系统结构是钽晶体晶体基质,其含有锂钽晶晶体底晶型氧化物膜的主要表面。 β。 - Ga2O3主要形成。锂钽晶晶体基板的主表面,其特征在于M或R平面.Diagram

著录项

  • 公开/公告号JP2021038116A

    专利类型

  • 公开/公告日2021-03-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 信越化学工業株式会社;

    申请/专利号JP20190160610

  • 发明设计人 橋上 洋;渡部 武紀;坂爪 崇寛;

    申请日2019-09-03

  • 分类号C30B29/16;C30B25/18;C23C16/40;H01L21/365;H01L21/368;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 17:40:24

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