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Aluminium-titanium gold semiconductor contact - with molybdenum, platinum or palladium below gold for higher strength

机译:铝钛金半导体触点-与金下方的钼,铂或钯实现更高的强度

摘要

In a semiconductor device, esp. integrated semiconductor circuit with contacts suitable for use without wires, with an Al layer in contact with the semiconductor surface, then a Ti layer and an outer Au layer, there is a layer of Mo, Pt or Pd between the Ti and Au layers. Pref. the Mo or Pt layer is produced on the Ti layer by h.f. sputtering and the Pd layer by vapour deposition. The use of a Mo, Pt or Pd layer improves the mechanical strength and also prevents Au atoms penetrating to the Al layer.
机译:特别是在半导体器件中。集成半导体电路,其触点适用于不使用导线的情况,其中Al层与半导体表面接触,然后是Ti层和外层Au层,在Ti和Au层之间有一层Mo,Pt或Pd。首选通过h.f在Ti层上产生Mo或Pt层。溅射和通过气相沉积的Pd层。 Mo,Pt或Pd层的使用提高了机械强度,并且还防止了Au原子渗透到Al层中。

著录项

  • 公开/公告号DE2348325A1

    专利类型

  • 公开/公告日1975-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LICENTIA PATENT-VERWALTUNGS-GMBH;

    申请/专利号DE19732348325

  • 发明设计人 GANZERMANFRED;

    申请日1973-09-26

  • 分类号H01L23/48;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-23 03:57:51

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