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Plating solutions - cyanide free plating solution for deposition of gold/palladium alloys

机译:电镀液-用于沉积金/钯合金的无氰电镀液

摘要

A cyanide free plating bath contg. 1-50 g/l Au potassium gold sulphite and 0.05-10 g/l of a soluble Pd salt or complex together with =1 metallic element such as Cu, Ni, Ba etc. at 10 mg)l - 30 g/l plus 10 mg/l - 30 g/l of N contg. cpd. e.g. NH3 or complex organic nitro cpds. such as polyamines etc. and a chelating agent such as oxalic or citric acid etc., is proposed. Buffering agents e.g. H3PO4 maintain pH at 5.5-11, plating temps. are 20-85 degrees C at 0.1-3A/dm2. The alloy layer deposited can be used for electronic circuitry or decoration and possesses good coloration and strength. The colour may be varied depending on which other metallic ions are present in the plating solution. Thick layers =50 mu may be deposited.
机译:不含氰化物的电镀液(续)。 1-50 g / l的亚硫酸钾金金和0.05-10 g / l的可溶性Pd盐或络合物以及> = 1的金属元素,例如10 mg)l-30 g / l的Cu,Ni,Ba等金属元素加10毫克/升-30克/升的续氮cpd。例如NH3或复杂的有机硝基cpds。提出了诸如多胺等的螯合剂和诸如草酸或柠檬酸的螯合剂。缓冲剂H3PO4将pH维持在5.5-11,电镀温度。温度在0.1-3A / dm2时为20-85摄氏度。沉积的合金层可用于电子电路或装饰,并具有良好的着色和强度。颜色可以根据电镀液中存在的其他金属离子而变化。可以沉积=50μm的厚层。

著录项

  • 公开/公告号FR2152854B1

    专利类型

  • 公开/公告日1976-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 OMF CALIFORNIA INC;

    申请/专利号FR19720032183

  • 发明设计人

    申请日1972-09-08

  • 分类号C23B5/00;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 01:54:49

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