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POLYSILICON THIN-FILM TRANSISTOR AND ACTIVE MATRIX TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING THE SAME

机译:使用相同的多晶硅薄膜晶体管和有源矩阵型液晶显示装置

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To effectively block mixture of migratory ions from a glass substrate and to effectively suppress microcracks. ;SOLUTION: While a thin-film transistor structure, wherein mixture of migratory ions from a glass substrate is suppressed, is actualized by arranging an undercoat layer in double-layered structure of an SiN undercoat layer 10 and an SiO film undercoat layer 11 on a glass substrate 1, a source-drain region 4, an LDD region 9, and a polysilicon region of a channel polysilicon layer 3 as elements of a thin-film transistor thereupon, and then a gate line layer 6 at the part corresponding to the channel polysilicon layer 3 across a gate insulating film 5, microcracks are suppressed by making the undercoat layer at least correspond to the polyslicon region including the source-drawin region 4, LDD region 9, and channel polysilicon layer 3 thicker than other regions.;COPYRIGHT: (C)1999,JPO
机译:要解决的问题:有效阻止玻璃基板中迁移离子的混合并有效抑制微裂纹。 ;解决方案:虽然可以通过在SiN底涂层10和SiO膜底涂层11的双层结构中安排底涂层来实现薄膜晶体管结构(其中抑制了来自玻璃基板的迁移离子的混合),但这种结构却得以实现。玻璃基板1,作为其上的薄膜晶体管的元件的沟道多晶硅层3的源-漏区4,LDD区9和多晶硅区,然后在与沟道相对应的部分处形成栅线层6跨越栅极绝缘膜5的多晶硅层3,通过使底涂层至少对应于包括源漏区4,LDD区9和沟道多晶硅层3的多晶硅区比其他区域厚,可以抑制微裂纹。 (C)1999,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JPH11163353A

    专利类型

  • 公开/公告日1999-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TOSHIBA CORP;

    申请/专利号JP19970322980

  • 发明设计人 SETO TOSHISUKE;

    申请日1997-11-25

  • 分类号H01L29/786;G02F1/136;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-22 02:37:05

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