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Silicon delta-doped gallium arsenide/indium arsenide heterojunction OHMIC contact

机译:硅掺杂的砷化镓/砷化铟异质结OHMIC触点

摘要

An ohmic contact including a gallium arsenide substrate having an epitaxially grown crystalline layer of indium arsenide on the substrate. The crystalline material and the substrate define an interface, layers are n-doped with silicon close to the interface.
机译:一种包括砷化镓衬底的欧姆接触,该衬底上具有外延生长的砷化铟晶体层。晶体材料和衬底限定界面,层在界面附近被n-掺杂硅。

著录项

  • 公开/公告号US6172420B1

    专利类型

  • 公开/公告日2001-01-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MOTOROLA INC.;

    申请/专利号US20000502702

  • 发明设计人 KUMAR SHIRALAGI;

    申请日2000-02-11

  • 分类号H01L234/80;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 01:05:46

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