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SILICON NITRIDE FILM COMPRISING AMORPHOUS SILICON QUANTUM DOT NANOSTRUCTURE EMBEDDED THEREIN AND LIGHT EMITTING DIODE CONTAINING SAME

机译:包含非晶硅量子点纳米结构的氮化硅膜和包含相同结构的发光二极管

摘要

The present invention is a silicon light emitting element to be adopted for the thin film on the silicon nitride thin film including the amorphous silicon quantum dots microstructure formed in the silicon nitride-base body and the base body can be manufactured by directly utilizing a conventional silicon semiconductor technology, and , luminous efficiency is excellent, it is also possible emit light in the visible light region, including the short-wavelength region, such as green, and blue.
机译:本发明是在包括在氮化硅基体中形成的非晶硅量子点微结构的氮化硅薄膜上的薄膜中采用的硅发光元件,并且可以通过直接利用常规硅来制造基体。此外,由于半导体技术的发光效率优异,所以还可以在包括绿色和蓝色等短波长区域的可见光区域发光。

著录项

  • 公开/公告号KR100334344B1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-04-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NULL NULL;

    申请/专利号KR19990046542

  • 发明设计人 박래만;박성주;

    申请日1999-10-26

  • 分类号H01L33/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-22 00:29:46

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