首页> 外国专利> PROCEDURES FOR THE DETERMINATION OF TYPE PROFILES IN THE DUNNING SCOPE

PROCEDURES FOR THE DETERMINATION OF TYPE PROFILES IN THE DUNNING SCOPE

机译:确定敦煌范围内类型剖面的程序

摘要

PCT No. PCT/EP97/05632 Sec. 371 Date Dec. 14, 1998 Sec. 102(e) Date Dec. 14, 1998 PCT Filed Oct. 13, 1997 PCT Pub. No. WO98/16948 PCT Pub. Date Apr. 23, 1998The invention relates to a method to determine depth profiles in an area of thin coating of solid substrates comprising the following steps: producing an ion beam with a substantial amount of ions having a molecular weight above 32 and consisting of at least 3 atoms; focusing the ion beam on the substrate surface whereby ions break down into two components upon impact and impact energy of the individual atoms or molecular fragments is sufficient for the removal of the upper coating as defined and interaction of particles bombarded by the solid body does not lead to a coating to be formed; removing defined surface coatings by an ionic beam sputter process; determining of concentration of sputtered components removed from the substrate surface by means of a measuring probe with a measuring and evaluation circuit connected downstream.
机译:PCT号PCT / EP97 / 05632第二部分371日期1998年12月14日102(e)1998年12月14日PCT申请日期1997年10月13日PCT公开WO98 / 16948 PCT公布1998年4月23日,本发明涉及一种确定固体基质薄涂层区域的深度分布的方法,该方法包括以下步骤:产生具有大量离子的离子束,所述离子的分子量大于32,并且至少包括3个原子;将离子束聚焦在基材表面上,从而使离子在单个原子或分子碎片的碰撞能量和撞击能量下分解为两个成分,足以清除所定义的上涂层,并且不会轰击被固体轰击的粒子待形成的涂层;通过离子束溅射工艺去除规定的表面涂层;通过带有连接在下游的测量和评估电路的测量探针,确定从基板表面去除的溅射成分的浓度。

著录项

  • 公开/公告号DE59706862D1

    专利类型

  • 公开/公告日2002-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BENNINGHOVEN ALFRED;

    申请/专利号DE19975006862T

  • 发明设计人 BENNINGHOVEN ALFRED;NIEHUIS EWALD;

    申请日1997-10-13

  • 分类号H01J37/30;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-22 00:25:55

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号